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ASML荷兰有限公司

作品数：5,278 被引量：0H指数：0
相关机构：ASML控股股份有限公司卡尔蔡司SMT有限责任公司ASML控股有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信文化科学机械工程更多>>

合作机构

文献类型

  • 5,278篇中文专利

领域

  • 389篇自动化与计算...
  • 349篇电子电信
  • 205篇文化科学
  • 77篇机械工程
  • 60篇理学
  • 22篇金属学及工艺
  • 19篇电气工程
  • 15篇经济管理
  • 14篇医药卫生
  • 9篇一般工业技术
  • 6篇轻工技术与工...
  • 4篇化学工程
  • 4篇政治法律
  • 3篇石油与天然气...
  • 2篇建筑科学
  • 1篇矿业工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇文学

主题

  • 2,525篇光刻
  • 1,823篇光刻设备
  • 1,307篇衬底
  • 745篇图案
  • 619篇光学
  • 545篇图案化
  • 402篇量测
  • 363篇感器
  • 363篇传感
  • 363篇传感器
  • 359篇掩模
  • 341篇辐射源
  • 327篇图像
  • 318篇照射
  • 284篇基底
  • 224篇计算机
  • 218篇电粒子
  • 218篇衍射
  • 216篇晶片
  • 214篇带电粒子

机构

  • 5,278篇ASML荷兰...
  • 172篇ASML控股...
  • 22篇卡尔蔡司SM...
  • 20篇ASML控股...
  • 18篇西默有限公司
  • 11篇卡尔蔡司SM...
  • 3篇阿姆斯特丹大...
  • 3篇阿姆斯特丹自...
  • 2篇学研究院
  • 2篇诚实公司
  • 1篇睿初科技公司
  • 1篇通快激光系统...
  • 1篇大日本网目版...
  • 1篇校际微电子中...
  • 1篇IMEC 非...

年份

  • 451篇2025
  • 586篇2024
  • 394篇2023
  • 408篇2022
  • 464篇2021
  • 324篇2020
  • 248篇2019
  • 192篇2018
  • 124篇2017
  • 139篇2016
  • 136篇2015
  • 147篇2014
  • 169篇2013
  • 255篇2012
  • 254篇2011
  • 196篇2010
  • 238篇2009
  • 74篇2008
  • 122篇2007
  • 109篇2006
共 5,278 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
具有残余物抑制装置的光刻装置和器件制造方法
本发明包括一种光刻投影装置，用于将掩模中的掩模图案成像到基底上，该装置包括构造和设置成提供投影辐射光束的辐射系统；构造成保持掩模的第一目标台；构造成保持基底的第二目标台；和构造和设置成将掩模被照射的部分成像到基底目标部分...
L·P·巴克
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具有对准子系统的光刻装置，使用对准的器件制造方法以及对准结构
本发明公开一种光刻装置，包括用于相对构图部件(MA)对准基底台(WT)上基底(W)的对准子系统(21)。该对准结构(10)包括可检测为捕获位置或检验位置的非周期特征(15)，使用对准子系统(21)中的参考光栅(26)。非...
L·M·勒瓦斯尔A·J·登博夫I·迪恩斯托弗A·B·约宁克S·G·克鲁斯维克H·P·M·佩勒曼斯I·D·塞特杰H·P·T·托斯马
文献传递
光刻过程和设备以及检测过程和设备
本发明披露了一种控制光刻过程的光刻设备和相关联的方法。该光刻设备包括控制器，该控制器配置成限定与衬底在光刻设备内的定位相关联的控制栅格。该控制栅格基于以与图案化装置相关联的器件布局为基础，该器件布局限定在光刻过程中待施加...
W·T·特尔H·E·卡图V·阿尔蒂尼拜尔拉克·摩艾斯特
用于多束带电粒子检查系统的图像增强的系统和方法
与本文公开一致的实施例包括用于多束带电粒子检查系统的图像增强的方法。与本公开一致的系统和方法包括分析代表第一图像和第二图像的信号信息，其中第一图像与一组束中的第一束相关联，并且第二图像与一组束中的第二束相关联；基于分析，...
M·R·古森 A·V·G·曼格努斯 L·库因德尔斯玛
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光刻设备及器件制造方法
一种光刻设备(100)包括：衬底台(WT)，构造以保持衬底(W)；投影系统(PS)，配置成通过开口(301)投影图案化辐射束并且将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；和导管(305、306)，具有在开口中的出口(306)...
M·兰詹C·路吉腾F·詹森M·切尼斯霍夫
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光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法
一种光谱纯度滤光片，包括：基底、穿过所述基底的多个孔和多个壁。所述壁限定了穿过所述基底的多个孔。所述光谱纯度滤光片还包括：第一层，形成在所述基底上以反射第一波长的辐射；和第二层，形成在所述第一层上以防止所述第一层氧化。所...
A·亚库宁M·范卡朋V·季莫什科夫
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光刻设备、定位系统以及定位方法
本发明提供一种光刻设备、定位系统和定位方法。具体地，一种用于光刻设备的定位系统，包括：控制系统，用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，用于测量所述可移动物体的位置；...
E·M·J·斯密特思
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投影系统及利用该投影系统的方法
本发明涉及一种投影系统，包括至少一个投射装置(10)，该投影装置设置为接收来自第一物体(MA)的投射光束(PB)，并将该投射光束投射到第二物体(W)上。投影系统(PL)进一步包括传感器(11)，该传感器用于测量至少一个投...
M·H·A·里德斯H·H·M·科西L·M·勒瓦斯尔
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光刻设备和方法
在光刻设备中，图案形成装置相对于支架的滑动可以通过以下方法来提供：测量支架相对于光刻设备的第一结构的位置；测量图案形成装置相对于光刻设备的第二结构的位置；根据由测得的支架位置、测得的图案形成装置的位置以及第一和第二结构之...
约翰尼斯·昂伍李埃里克·洛芬夫·鲁普斯卓
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基底载体及其制造基底载体的方法
一种构造成分别支撑光刻基底和光刻构图装置的载体，包括：设有敞开的中空结构的第一部件，所述敞开的中空结构向所述第一部件的至少一侧敞开。载体还包括：与第一部件连接的第二部件，这样，在所述第一和第二部件之间形成封闭的中空内部结...
N·J·吉里森J·J·奥特坦斯H·K·范德肖特P·M·H·沃斯特斯
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