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ASML控股有限公司

作品数：25 被引量：0H指数：0
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合作机构

文献类型

  • 25篇中文专利

主题

  • 14篇光刻
  • 11篇构图
  • 10篇衬底
  • 9篇光刻设备
  • 5篇照明
  • 5篇照明系统
  • 5篇反射镜
  • 4篇元件
  • 3篇有源
  • 3篇照射
  • 3篇图案
  • 3篇平面度
  • 3篇螺杆
  • 3篇程控
  • 2篇调节装置
  • 2篇振动
  • 2篇蚀刻
  • 2篇枢轴
  • 2篇数值孔径
  • 2篇喷头

机构

  • 25篇ASML控股...
  • 20篇ASML荷兰...

年份

  • 3篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2010
  • 4篇2009
  • 1篇2008
  • 7篇2007
  • 4篇2006
  • 2篇2005
共 25 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件
公开了一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，其包括构造成可固定衬底的衬底固定装置和构造成在将衬底转移到衬底固定装置上之前、期间或这两者时可调节衬底的温度到大致上与衬底固定装置的温度相匹配的衬底温度调节装...
J·J·奎特P·沙普S·罗克斯G·奥康纳
文献传递
光刻装置、器件制造方法和由其制造的器件
公开了一种设置成可将图案从图案形成结构转移到衬底上的光刻装置，其包括构造成可固定衬底的衬底固定装置和构造成在将衬底转移到衬底固定装置上之前、期间或这两者时可调节衬底的温度到大致上与衬底固定装置的温度相匹配的衬底温度调节装...
J·J·奎特P·沙普S·罗克斯G·奥康纳
文献传递
无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统
公开用于确定空间光调制器(SLM)的特定像素调制状态以便把所需图案印刷到衬底上的方法和系统。所述方法包括在所需图案的物平面上选择至少一个超像素，超像素由至少两个像素组成。所需图案的至少一条边缘与超像素中的边界交叉，所述至...
A·M·拉蒂波夫J·J·M·巴塞尔曼斯K·Z·特罗斯特
文献传递
照明系统
一种用于基本上均化辐射束并从该辐射束去除至少一些相干性的系统和方法。
H·威瑟J·F·F·克林卡默L·里齐科夫S·科斯顿A·祖比尔H·J·P·文克Y·K·施马里夫
文献传递
光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法
在根据本发明一个实施方案的一种构造中，一种模块上的第一光栅补丁与另一种模块上的第一光栅补丁被对准。在此安排的一种不同的构造中，一种模块上的第二光栅补丁与另一种模块上的第二光栅补丁被对准。二种构造不同时存在。
S·波尔特尼 H·V·科克
文献传递
使用超像素形式的倾斜镜面的光构图装置
一种光构图系统包括提供具有一定波长(λ)的辐射束的照明系统。反射像素阵列构图该束，其中阵列包括像素，该像素至少具有逻辑耦合到第二倾斜镜面的第一倾斜镜面。在实施例中，第一和第二倾斜镜面(i)基本上彼此相邻；且(ii)在高度...
N·巴巴-阿李A·J·B·布利克K·Z·特卢斯特
文献传递
光刻设备和器件制造方法
提供了一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包...
A·J·布里克J·J·M·巴塞曼斯M·M·T·M·迪伊里奇斯C·瓦格纳L·赖齐科夫S·Y·斯米诺夫K·Z·特鲁斯特
文献传递
光刻装置和器件制造方法
将一个或多个程控构图装置通过高度调整结构装配到装配板上，所述高度调整结构能使构图装置的有源表面的平面度得到控制。所述高度调整结构可以包括压电制动器或螺杆阵列。或者是，构图装置的背侧被打磨成光学平坦面，并通过晶体粘结而结合...
A·J·布里克D·J·P·A·弗兰肯P·C·科彻斯佩格K·Z·特鲁斯特
文献传递
光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件
公开了一种光刻设备、器件制造方法、以及用于光刻设备的投影元件。该光刻设备含有：用于提供脉冲辐射束的辐射系统、用于给该辐射束赋予一图形以形成图形化的辐射束的构图装置、以及具有用于将该图形化的辐射束投影到衬底目标部分的投影元...
A·J·布里克D·J·P·A·弗兰肯M·L·内森S·劳西
文献传递
器件制造方法和计算机程序产品
以比用常规光刻技术更高的密度形成特征例如接触孔的方法包含形成牺牲正特征阵列、共形地沉积牺牲层以便与正特征交错地形成负特征、定向地蚀刻牺牲层和移除牺牲特征。结果是孔阵列的密度比原始牺牲特征高。然后利用所希望的处理使这些转移...
R·J·F·范哈伦M·范德沙尔E·弗鲁格登希尔H·塞维尔
文献传递
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