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卡尔蔡司SMT股份公司
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109
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卡尔蔡司激光器材有限责任公司
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机械工程
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机构
109篇
卡尔蔡司SM...
11篇
ASML荷兰...
1篇
卡尔蔡司激光...
年份
11篇
2011
39篇
2010
19篇
2009
7篇
2008
12篇
2007
5篇
2006
11篇
2005
5篇
2004
共
109
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具有测量装置的用于微光刻的投射曝光系统
提供用于微光刻的投射曝光系统(10)。该投射曝光系统包括:用于支撑于其上布置有掩模结构(20)的掩模(18)的掩模支撑装置(14);用于支撑基底(30)的基底支撑装置(36);投射光学部件,用于在曝光过程期间将所述掩模结...
乌尔里克·米勒
乔基姆·施图勒
奥斯瓦尔德·格罗默
罗尔夫·弗赖曼
保罗·考夫曼
伯恩哈德·格珀特
用于微光刻的照明光学部件
一种用于微光刻的照明光学部件,该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明的第一方面,照明光学部件(26)将照明光辐射束(3)分成多个辐射子束(28至30),该多个辐射子束被分配物场照明...
马丁·恩德雷斯
拉尔夫·施图茨尔
詹斯·奥斯曼
具有中间图像的反射折射投影物镜
一种反射折射投影物镜,用于将布置在投影物镜的物面上的图案成像在投影物镜的像面上,具有用于物场的成像以形成第一真实的中间图像的第一物镜部分,利用来自第一物镜部分的辐射产生第二真实的中间图像的第二物镜部分;以及将第二真实的中...
A·多多克
W·乌尔里希
A·埃普勒
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投影曝光设备中的成像装置
披露的是一种用于微刻的投影曝光设备(1)的成像装置(7),其包括至少一个光学元件(10、33、34)和至少一个操纵装置(9、36、41),该操纵装置设置有线性驱动器(11),用于操纵光学元件(10、33、34)的位置。该...
W·哈梅尔
J·菲舍尔
K·-E·奥贝勒
E·默茨
R·罗尔
K·里夫
S·舍恩加特
M·诺伊迈尔
B·特罗斯巴赫
T·拉赛尔
U·韦伯
M·米尔贝耶
H·霍尔德雷尔
A·科尔
J·韦伯
J·利佩尔特
文献传递
用于校正图像变化的方法和系统
本发明涉及一种用于补偿光学系统中、特别是微光刻系统的投影透镜阵列(3)中强度分布所致成像误差的方法,该方法包括以下步骤:确定光学系统的至少一个光学元件中与位置和时间有关的强度分布;确定已经为之确定强度分布的至少光学元件中...
O·康拉迪
T·格鲁纳
文献传递
清洁光学表面的方法和装置
本发明涉及一种利用UV射线在清洁气体中对射束导向透镜的表面进行去污的方法和装置。按照本发明,所用的UV射线的波长在强吸收氧的区域,清洁气体中的氧浓度低于空气中的氧浓度。
J·吕德克
C·查策克
A·帕茨迪斯
J·乌尔曼
A·米尔普福尔德特
M·蒂尔
S·维斯纳
文献传递
用晶体材料制造透镜
本发明涉及用一种晶体材料制造光学坯件(1)的方法,该坯件作为制造透镜或透镜部件用于物镜,特别是用于微光刻技术投影曝光设备的投影物镜的预备阶段。在本方法中首先确定定义在晶体结构内取向的第一晶向(3)的方位。然后这样加工光学...
B·恩基施
H·恩基施
T·格鲁纳
文献传递
光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜
本发明涉及一种光学系统,具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜,其包括至少一影响偏振的光学布置(200、400、550),所述光学布置具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件(210、220),其中至少...
尼尔斯·迪克曼
达米安·菲奥尔卡
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特别用于极远紫外(EUV)光刻术中的发光系统
特别用于极远紫外光刻、包括以≤193nm的波长制造半导体元件的投影透镜的发光系统,设有光源(1)、物平面(12)、出射光瞳(15)、生成光通道的具有第一栅格元件(6)的第一光学元件(5)、具有第二栅格元件(8)的第二光学...
F·梅尔策尔
W·辛格
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光学元件操纵仪
本发明涉及到光学元件(7)操纵仪,其通过至少三个调节装置(9)在相对于结构(8)多达六个自由度上来操纵光学元件(7)。调节装置(9)每个都有至少两个由力控制的调节器,每个调节器沿一个自由度产生作用力,而调节装置(9)的链...
M·米尔拜尔
J·科佩尔特
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