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卡尔蔡司SMT有限责任公司

作品数：1,193 被引量：0H指数：0
相关机构：ASML荷兰有限公司以色列实用材料有限公司卡尔蔡司激光器材有限责任公司更多>>
相关领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术理学更多>>

合作机构

文献类型

  • 1,193篇中文专利

领域

  • 98篇电子电信
  • 73篇机械工程
  • 48篇自动化与计算...
  • 34篇理学
  • 28篇文化科学
  • 9篇金属学及工艺
  • 4篇医药卫生
  • 3篇电气工程
  • 3篇交通运输工程
  • 2篇化学工程
  • 2篇建筑科学
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇艺术

主题

  • 641篇光刻
  • 531篇光学
  • 367篇微光刻
  • 289篇光学元件
  • 285篇反射镜
  • 190篇照明
  • 185篇光学系统
  • 177篇掩模
  • 145篇成像
  • 110篇EUV
  • 102篇波长
  • 93篇照明系统
  • 90篇光刻设备
  • 88篇元件
  • 84篇物镜
  • 73篇光束
  • 67篇入射
  • 66篇基板
  • 65篇致动器
  • 57篇组件

机构

  • 1,193篇卡尔蔡司SM...
  • 22篇ASML荷兰...
  • 10篇以色列实用材...
  • 5篇卡尔蔡司激光...
  • 4篇卡尔蔡司SM...
  • 4篇卡尔蔡司显微...
  • 3篇卡尔蔡司工业...
  • 2篇罗伯特·博世...
  • 1篇卡尔蔡司SM...
  • 1篇应用材料以色...
  • 1篇卡尔蔡司耶拿...
  • 1篇卡尔蔡司股份...

年份

  • 85篇2025
  • 107篇2024
  • 110篇2023
  • 82篇2022
  • 92篇2021
  • 66篇2020
  • 73篇2019
  • 80篇2018
  • 60篇2017
  • 70篇2016
  • 79篇2015
  • 76篇2014
  • 78篇2013
  • 78篇2012
  • 57篇2011
共 1,193 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
反射镜座、光学系统和投射曝光设备
一种用于光学元件（102、102’）的反射镜座（112、112A、112B、112C、112D、112E、112F、112G、112H、112I、112J、112K、112L、112M、112N、112O、114、116...
R·奥尔利克D·佩茨A·加拉提杜J·克鲁伊斯M·纳夫兹K·里弗
成像光学系统
一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12）具有多个反射镜（M1‑M4），用于将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13）。成像光学系统的像侧数值孔径至少为0.3。成像光学系统具有大于0.40的瞳遮蔽...
R.米勒H-J.曼
文献传递
微光刻投射曝光设备的照明系统
一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，光入射分面的像至少基本上在掩模平面(88)中叠加。空间光调制器(52)以空间分辨方式透射或者反射投射光。光瞳形成单元将投射光引...
M·德冈瑟V·戴维登科T·科布F·施莱塞纳S·希尔特W·霍吉利
文献传递
EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统
一种EUV投射光刻的照明光学系统(26)，用于将照明光(16)引导至照明场(5)，该照明场中可布置光刻掩模(7)。具有多个分面(25)的分面反射镜(19)用于将照明光(16)引导至照明场(5)。分面(25)中的每一个指定...
M.帕特拉M.德冈瑟
文献传递
减振器件
本发明涉及用于投射曝光机的光学元件(1)的减振器件，其包括配置成彼此间隔开的至少两个质量体减振器(3)，所述振动吸收器(3)各自具有至少一个减振器质量体(30)和至少一个减振元件(32)，并且所述至少两个质量体减振器(3...
A.沃格勒K.里夫A.弗罗姆迈耶A.L.布赖登
文献传递
折反射投射物镜
本发明提供一种用于微光刻的折反射投射物镜，将物面中的物场成像到像面中的像场上，且包括：第一分物镜，将物场成像到实的第一中间像上；第二分物镜，将第一中间像成像到实的第二中间像上；以及第三分物镜，将第二中间像成像到像场上。第...
弗拉迪米尔·卡梅诺夫亚历山大·埃普尔托拉尔夫·格鲁纳托马斯·希克坦兹
文献传递
用于投射光刻的照明光学单元
一种照明光学单元(4)，用于投射光刻，照明光学单元(4)用于用来自EUV光源的照明光(16<Sub>i</Sub>)照明下游成像光学单元的物场(5)，在所述物场中可布置待照明的物体。第一分面反射镜(20)具有多个相邻布置...
M·帕特拉
包括多层涂层的光学元件及包括光学元件的光学装置
本发明涉及一种光学元件(50)，包含：基板(52)；以及施加于该基板(52)的多层涂层(51)，多层涂层包含：至少一个第一层系统(53)，其由相同构造的堆叠(X1至X4)的布置组成，各堆叠具有至少两个层(53a‑d)；以...
R.W.E.范德克鲁伊斯S.尼亚贝罗A.E.亚克欣F.比柯克
文献传递
接合物体的方法和组合体
本发明涉及一种接合方法和组合体。该接合方法在彼此相对放置的接合表面将第一物体接合到平板状第二物体。要被接合的所述物体形成为定位台的一部分，具体地用于微光刻的晶片台或掩模母版台。第二物体在至少一个方向上突出超过第一物体的边...
钟显耀D.沙弗
文献传递
密封装置、部件及光刻设备
一种密封装置(300)，其相对于光刻设备(100A、100B)的第二部件部分(206)密封该光刻设备(100A、100B)的第一部件部分(202)，该密封装置包括许多密封环(302)和许多连接位置(304)，其中密封环(...
D.巴德A.奥斯滕多夫O.弗吕格
文献传递
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