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ASML控股股份有限公司

作品数：506 被引量：0H指数：0
相关机构：ASML荷兰有限公司更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程理学更多>>

合作机构

文献类型

  • 506篇中文专利

领域

  • 55篇电子电信
  • 28篇自动化与计算...
  • 25篇机械工程
  • 23篇理学
  • 17篇文化科学
  • 13篇金属学及工艺
  • 4篇医药卫生
  • 2篇经济管理
  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇石油与天然气...

主题

  • 258篇光刻
  • 159篇光刻设备
  • 93篇光学
  • 85篇掩模
  • 77篇衬底
  • 73篇光刻系统
  • 51篇掩模版
  • 47篇晶片
  • 47篇感器
  • 47篇传感
  • 45篇照射
  • 45篇传感器
  • 44篇偏振
  • 39篇衍射
  • 36篇图案
  • 36篇量测系统
  • 33篇图案化
  • 31篇模版
  • 30篇光学元件
  • 30篇辐射源

机构

  • 506篇ASML控股...
  • 172篇ASML荷兰...

年份

  • 15篇2025
  • 48篇2024
  • 52篇2023
  • 53篇2022
  • 45篇2021
  • 34篇2020
  • 19篇2019
  • 16篇2018
  • 13篇2017
  • 9篇2016
  • 13篇2015
  • 9篇2014
  • 14篇2013
  • 20篇2012
  • 21篇2011
  • 18篇2010
  • 24篇2009
  • 20篇2008
  • 8篇2007
  • 17篇2006
共 506 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
光刻设备、量测系统及其方法
一种方法，包括：用顺序照射镜头辐照目标结构；将来自所述目标结构的散射束朝向成像检测器引导；使用所述成像检测器来产生检测信号；以及至少基于所述检测信号来确定所述目标结构的性质。顺序照射镜头中的每个照射镜头的积分时间被选择以...
A·J·A·贝克曼塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩S·鲁S·索科洛夫F·阿尔佩吉安尼
具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
一种包括曝光室和掩模版夹持器的光刻设备，该夹持器按该光刻设备的用户指令，更换要曝光的掩模版。该掩模版夹持器可以包括：能适应真空的机器人；容纳该机器人的真空室；用于输入各掩模版并把它们从大气压过渡到真空的装入闸室；处理该掩...
圣第亚哥·戴尔·普尔图玛库斯·F·A·欧林斯
文献传递
使用锁定放大器技术的重叠测量系统
检测系统(200)包括照射系统(210)、第一光学系统(232)、相位调制器(220)、锁定检测器(255)和函数发生器(230)。照射系统被配置为沿着照射路径传输照射束(218)。第一光学系统被配置为朝向衬底(202)...
M·斯维拉姆S·R·惠斯曼J·L·克鲁泽
带有形状记忆合金和磁耦合机构的掩模版笼式致动器
本文中的实施例描述了用于为物体提供支撑的方法和安全装置。一种安全装置包括具有驱动电机的驱动侧、以及从动侧。安全装置的从动侧包括外壳和安全闩锁，该外壳具有沿着外壳的长度延伸的旋转轴。从动侧经由旋转轴的第一端处的非接触式磁耦...
H·克里什南K·S·多希
在硬陶瓷涂层中制造纳米脊的方法
一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表...
M·A·阿克巴斯 T·尤特迪杰克 C·J·马松 M·利普森 D·H·彼得森 M·佩里 P·赫尔马斯 J·J·董 D·索拉比巴巴黑德利
利用集成电路致动器的空间光调制器及其制造和使用方法
空间光调制器(SLM)包括可以利用光刻技术或其它类似技术制造的集成电路致动器。该致动器包括致动器单元，可以由压电材料构成该致动器单元。电极阵列连接到致动器单元的两个侧壁。每个电极阵列可以具有一个或者多个电极部分。反射器件...
普拉迪普·K·戈维尔詹姆斯·G·查考耶尼斯
文献传递
光刻设备和紫外辐射控制系统
本公开提供了一种用于控制光刻设备中的紫外辐射的紫外辐射控制系统和相关方法。所述紫外辐射控制系统包括：壳体；转换晶体(540)，所述转换晶体被设置在所述壳体上或所述壳体中，所述转换晶体被配置成将紫外辐射转换为荧光辐射；多个...
A·克雷默
文献传递
用于在光刻设备中识别掩模版的设备和方法
一种用于诸如掩模版的掩模版的码标记，其中标记的各个元件包括衍射光栅，使得元件的视亮度取决于来自元件的光是否被衍射到读取器的透镜的数值孔径内或数值孔径外。
Y·弗拉迪米斯基M·阿里夫J·H·瓦尔什
文献传递
补偿扫描仪系统计时变化的半导体晶圆制备系统和方法
本发明公开了一种至少包括流水线系统和扫描仪系统的半导体晶圆制备系统，该系统当检测到对扫描仪系统中额定周期的偏离时，通过动态地引入时间延迟来补偿所述偏离。优选地，现有的静态等待状态也引入到晶圆配方中，以降低资源冲突的概率。...
海勒里奥·L·奥
文献传递
光刻图案形成装置多通道定位和水平量规
一种图案形成装置对准系统，包括多路径感测阵列，该多路径感测阵列包括第一准直光路和一个或多个其他光路，第一检测器位于第一准直光路的第一端处，第二检测器位于一个或多个其他光路第一端处。第一检测器从被照射的图案形成装置接收经反...
Y·弗拉迪米斯基L·雷日科夫
文献传递
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