2025年11月17日
星期一
|
欢迎来到三亚市图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
苏兰娟
作品数:
10
被引量:0
H指数:0
供职机构:
杭州士兰集成电路有限公司
更多>>
相关领域:
文化科学
电子电信
更多>>
合作作者
杨彦涛
杭州士兰集成电路有限公司
陈洪雷
杭州士兰集成电路有限公司
王昊
杭州士兰集成电路有限公司
李小锋
杭州士兰集成电路有限公司
何金祥
杭州士兰集成电路有限公司
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
9篇
专利
1篇
期刊文章
领域
2篇
文化科学
1篇
电子电信
主题
4篇
介质层
3篇
单晶
3篇
单晶体
3篇
电阻
3篇
氧化层
3篇
图形数据
3篇
外延层
3篇
温度测试
3篇
温度偏差
3篇
晶体
3篇
基底
3篇
光刻
3篇
半导体
3篇
报废率
2篇
电阻值
2篇
生长介质
2篇
阻值
2篇
离子注入
2篇
口形
2篇
光刻胶
机构
10篇
杭州士兰集成...
作者
10篇
苏兰娟
6篇
杨彦涛
4篇
陈洪雷
3篇
蒋敏
3篇
王平
3篇
何金祥
3篇
李小锋
3篇
王昊
1篇
向璐
传媒
1篇
电子与封装
年份
1篇
2018
1篇
2017
1篇
2016
3篇
2015
2篇
2014
2篇
2013
共
10
条 记 录,以下是 1-10
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
一种外延标记
本实用新型提供一种外延标记,包括:衬底;埋层光刻标记,形成在衬底上;第一消耗层,以埋层光刻标记为边界形成在衬底中;埋层氧化层,形成在第一消耗层上;第二消耗层,以埋层光刻标记为边界形成在衬底中且包围第一消耗层,其中,第一消...
杨彦涛
王平
苏兰娟
钟荣祥
袁志松
文献传递
外延温度测试监控结构及形成方法
本发明提供的外延温度测试监控结构及形成方法,方法包括:在衬底上生长介质层;在介质层中形成包括具有大小相等、第一间距一定的第一开口的监控结构窗口;消耗掉暴露出的部分衬底后生长出氧化层,去除介质层和氧化层,形成具有大小相等、...
杨彦涛
蒋敏
何金祥
李小锋
王柁华
苏兰娟
文献传递
一种外延标记及其相应的制作方法
本发明提供一种外延标记制作方法,包括:在衬底上依次生长第一氧化层和第一光刻胶,在第一光刻胶中形成埋层窗口和埋层光刻标记;去除埋层窗口中的第一氧化层,在衬底上形成埋层区域并进行离子注入;去除第一光刻胶并进行退火,在埋层区域...
杨彦涛
王平
苏兰娟
钟荣祥
袁志松
文献传递
半导体电阻结构及其形成方法
本发明提供了一种半导体电阻结构及其形成方法,所述结构包括:基底;第一掺杂类型的阱区,形成在所述基底内;栅介质层,至少部分位于所述阱区上;栅极,至少部分位于所述栅介质层上;第二掺杂类型的电阻体,形成在所述阱区内,所述电阻体...
陈洪雷
闻永祥
王昊
苏兰娟
文献传递
外延温度测试监控结构及形成方法
本发明提供的外延温度测试监控结构及形成方法,方法包括:在衬底上生长介质层;在介质层中形成包括具有大小相等、第一间距一定的第一开口的监控结构窗口;消耗掉暴露出的部分衬底后生长出氧化层,去除介质层和氧化层,形成具有大小相等、...
杨彦涛
蒋敏
何金祥
李小锋
王柁华
苏兰娟
文献传递
外延温度测试监控结构
本实用新型提供的外延温度测试监控结构,包括:一半导体衬底;监控窗口,由所述半导体衬底的表面形成,所述监控窗口具有特征尺寸大小分别相等的第二开口和用于间隔所述第二开口的第二间距区,所述第二间距区与所述第二开口的表面具有台阶...
杨彦涛
蒋敏
何金祥
李小锋
王柁华
苏兰娟
文献传递
一种外延标记及其相应的制作方法
本发明提供一种外延标记制作方法,包括:在衬底上依次生长第一氧化层和第一光刻胶,在第一光刻胶中形成埋层窗口和埋层光刻标记;去除埋层窗口中的第一氧化层,在衬底上形成埋层区域并进行离子注入;去除第一光刻胶并进行退火,在埋层区域...
杨彦涛
王平
苏兰娟
钟荣祥
袁志松
文献传递
0.8μm高压BCD电路漏电失效改善
2018年
0.8μm高压BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)电路存在漏电失效,其失效原因是IMD(InterMetal Dielectric)平坦化不良,造成金属2残留短路。通过SOG(spin-on-glass)二次平坦化工艺,大幅改善了IMD的平坦化效果,将平坦化因子由0.35提升到0.90,杜绝了金属2残留,较好地解决了漏电问题,提高了电路成品率。
向璐
陈洪雷
苏兰娟
关键词:
BCD
平坦化
半导体电阻结构及其形成方法
本发明提供了一种半导体电阻结构及其形成方法,所述结构包括:基底;第一掺杂类型的阱区,形成在所述基底内;栅介质层,至少部分位于所述阱区上;栅极,至少部分位于所述栅介质层上;第二掺杂类型的电阻体,形成在所述阱区内,所述电阻体...
陈洪雷
闻永祥
王昊
苏兰娟
半导体电阻结构
本实用新型提供了一种半导体电阻结构,所述结构包括:基底;第一掺杂类型的阱区,形成在所述基底内;栅介质层,至少部分位于所述阱区上;栅极,至少部分位于所述栅介质层上;第二掺杂类型的电阻体,形成在所述阱区内,所述电阻体的至少一...
陈洪雷
闻永祥
王昊
苏兰娟
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张