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湖北鼎龙控股股份有限公司

作品数：286 被引量：9H指数：2
相关机构：湖北鼎汇微电子材料有限公司武汉柔显科技股份有限公司武汉鼎泽新材料技术有限公司更多>>
相关领域：化学工程自动化与计算机技术电子电信文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 275篇专利
  • 9篇标准
  • 2篇期刊文章

领域

  • 64篇化学工程
  • 17篇自动化与计算...
  • 5篇电子电信
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇一般工业技术
  • 3篇文化科学
  • 2篇经济管理
  • 2篇轻工技术与工...
  • 1篇医药卫生
  • 1篇理学
  • 1篇兵器科学与技...

主题

  • 88篇抛光
  • 85篇抛光垫
  • 68篇树脂
  • 55篇组合物
  • 36篇光层
  • 35篇酰亚胺
  • 33篇调色
  • 33篇调色剂
  • 29篇聚酰亚胺
  • 28篇亚胺
  • 28篇半导体
  • 27篇研磨
  • 24篇聚酯
  • 23篇感光
  • 19篇半导体器件
  • 18篇氰酸
  • 17篇异氰酸
  • 16篇聚氨酯
  • 15篇抗蚀剂
  • 14篇显示装置

机构

  • 286篇湖北鼎龙控股...
  • 90篇湖北鼎汇微电...
  • 64篇武汉柔显科技...
  • 35篇武汉鼎泽新材...
  • 6篇长江存储科技...
  • 6篇北京莱盛高新...
  • 4篇天津市合成材...
  • 4篇纳思达股份有...
  • 3篇天津复印技术...
  • 3篇珠海奔图电子...
  • 3篇优彩科技(湖...
  • 2篇中国电子技术...
  • 2篇天津光电通信...
  • 2篇珠海宝利通耗...
  • 2篇安徽天兴凯顿...
  • 2篇宁波佛来斯通...
  • 2篇苏州恒久光电...
  • 2篇沧州惠宝墨粉...
  • 2篇武汉宝特龙科...
  • 2篇南京新天兴影...

作者

  • 1篇马燕
  • 1篇陈海
  • 1篇张俊辉
  • 1篇梅建明

传媒

  • 1篇管理世界
  • 1篇注册税务师

年份

  • 51篇2025
  • 54篇2024
  • 27篇2023
  • 29篇2022
  • 34篇2021
  • 24篇2020
  • 28篇2019
  • 29篇2018
  • 10篇2017
共 286 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种研磨布及其制备方法
本发明公开了一种研磨布，包括纤维基材两次含浸于发泡材料制备得到的弹性复合层；所述发泡材料包括一次含浸浆料和二次含浸浆料，所述一次含浸浆料的反应原料包括5～40wt％的二异氰酸酯、40～60wt％的聚烯烃多元醇、20～40...
冯玉璞 王磊 郭纯 阮波 丁文强 刘志强
抛光垫的制备方法
本发明公开了一种抛光垫的制备方法，解决了现有抛光制备过程中散热不均导致抛光垫密度不均、影响研磨稳定性的问题。技术方案包括在模具中设置含有或通入冷却剂的冷却腔，然后将原料浇注在模具中得到第一垫层；由第一垫层中取出含有冷却剂...
朱顺全吴晓茜张季平车丽媛
文献传递
抛光层、抛光垫及半导体器件的制造方法
本发明涉及一种抛光层，所述抛光层包含由5～100μm大小孔隙分隔连续的聚氨酯基材而形成的闭孔弹性体，所述聚氨酯基材包含经由异氰酸酯封端的预聚物与固化剂的反应产物；所述抛光层包含抛光表面，在抛光表面上方距离为h处自由释放质...
罗乙杰毛丽华黄云鹏高越
抛光垫、研磨设备及制造半导体器件的方法
本发明公开了涉及半导体的化学机械抛光技术领域的抛光垫、研磨设备及制造半导体器件的方法。所述抛光垫具有抛光面，自抛光面圆心向外周缘方向，在抛光面上至少依次设置第一环状研磨单元群、第二环状研磨单元群和第三环状研磨单元群；所述...
黄学良王淑芹王欢王腾张季平朱顺全
一种自修整抛光垫及其制备方法和应用
本发明公开一种自修整抛光垫及其制备方法和应用，所述自修整抛光垫包括抛光层，所述抛光层包括不连续相聚合物材料和连续相聚合物材料，所述不连续相聚合物材料均匀分散在所述连续相聚合物材料中，所述连续相聚合物材料包括水溶性聚合物材...
王腾 殷晶莉 罗乙杰 刘敏 王椎 林文多 杨浩 黄锐
微波辐射法辅助制备彩色碳粉的方法
本发明公开了一种微波辐射辅助制备彩色碳粉的方法，包括在微波辐射作用下，使乳液预聚体A升温至聚合反应温度并保持该温度至聚合反应结束，乳液预聚体A在引发剂的存在下发生聚合反应，以制备阴离子型含蜡聚合物复合乳液A；在微波辐射作...
朱双全李小龙肖桂林
文献传递
一种用于多晶硅的化学机械抛光组合物、抛光方法
本发明提供一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光(CMP)组合物。所述CMP组合物包含胶体二氧化硅研磨粒子、有机酸、有机碱、螯合剂及水，其中有机碱为含羟基的含氮化合物，含氮化合物的羟基含量为10～21mmol/g，组合物具有1...
王银肖桂林刘子龙胡怀志鲁丽平徐阳
一种抛光垫及其制备方法、应用
本发明公开一种抛光垫及其制备方法、应用。该抛光垫具有不同压缩比和回弹率的组合片共同形成的缓冲层及叠合在缓冲层上的抛光层；不同组合片形成中心圆心缓冲区、环绕中心缓冲区依次设置的一个或一个以上的中间环形缓冲区以及环绕中间缓冲...
王腾 罗乙杰 王磊 刘敏 杨浩
文献传递
复配剂、用于铜的化学机械抛光组合物和抛光方法
本发明公开了一种抑制铜腐蚀的复配剂，该复配剂包括含氮化合物a、含氮化合物b和表面活性剂，所述含氮化合物a和含氮化合物b的结构如下所示：<IMG height="276" width="581" src="DDA00053...
吴亮肖桂林刘子龙胡怀志欧阳广成冉运欧阳吉虹
用于调色剂的添加剂及其制备方法
本发明涉及一种用于调色剂的添加剂及其制备方法。用于调色剂的添加剂为具有特定结构的流动改性剂改性纳米二氧化硅复合体，具体将纳米二氧化硅进行改性，并在表面接枝具有特定结构的流动改性剂得到的。所述添加剂具有如下述式(1)所示的...
夏元玲李清涛李小龙张季平朱顺全
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