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张静

作品数：1 被引量：12H指数：1
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇声波
  • 1篇硅片
  • 1篇硅片清洗
  • 1篇RCA清洗
  • 1篇HF
  • 1篇O

机构

  • 1篇北京有色金属...

作者

  • 1篇闫志瑞
  • 1篇李莉
  • 1篇李俊峰
  • 1篇张静
  • 1篇刘红艳

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
HF／O_3在300mm硅片清洗中的应用被引量：12
2006年
随着半导体技术的不断发展,集成电路的线宽在不断减小,对硅抛光片表面质量的要求也越来越高,传统的RAC清洗方法已不能满足其需求,因此,必须发展新的清洗方法。本文对传统的RCA清洗方法进行了简单的介绍,分析了其中的不足之处,在此基础上,对新发展的HF／O3槽式清洗法和HF／O3 单片清洗法进行了详细的说明,从而对300mm硅片清洗方法的未来发展方向进行了简单论述。
闫志瑞李俊峰刘红艳张静李莉
关键词：硅片RCA清洗
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共1页<1>
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