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邢伟荣
作品数:
49
被引量:5
H指数:1
供职机构:
中国电子科技集团第十一研究所
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相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
文化科学
理学
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合作作者
刘铭
中国电子科技集团第十一研究所
折伟林
中国电子科技集团第十一研究所
周朋
中国电子科技集团第十一研究所
李震
中国电子科技集团第十一研究所
尚林涛
中国电子科技集团第十一研究所
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1篇
2013
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一种红外探测器材料及其制备方法
本发明提供一种红外探测器材料及其制备方法,用以解决现有技术中降低锑化铟材料暗电流较为困难的问题。该方法包括:根据响应波长的范围,设定铟铝锑层中铝组分的参数、厚度、异质结的排布的参数;制作锑化铟衬底;根据设定的参数生长锑化...
刘铭
程鹏
周朋
尚林涛
邢伟荣
文献传递
双色红外探测器材料及其制备方法
本发明公开了一种双色红外探测器材料及其制备方法,包括:对锑化铟晶体进行预处理,所述锑化铟为InSb,得到外延级的InSb衬底;根据响应波长范围设定铟铝锑中的Al组分的参数,所述铟铝锑为InAlSb,并在外延级的InSb衬...
刘铭
巩锋
程鹏
王经纬
邢伟荣
文献传递
双波段石墨烯探测装置、探测芯片及其制备方法
本发明公开了一种双波段石墨烯探测装置、探测芯片及其制备方法,双波段石墨烯探测芯片,包括:从下至上依次层叠设置的第一硅层、第一量子点增强的石墨烯层、第一环氧树脂胶层、第二硅层、第二量子点增强的石墨烯层、第二环氧树脂胶层;第...
周朋
刘铭
邢伟荣
分子束外延Si基碲镉汞材料的As掺杂研究
2025年
为了制备出可靠性高、掺杂浓度可控的高质量碲镉汞(HgCdTe)材料,需对As掺杂后的HgCdTe材料特性进行研究。报道了分子束外延(Molecular Beam Epitaxy, MBE)硅基碲镉汞As掺杂技术。利用As裂解源作为As掺杂源,制备出高质量碲镉汞材料,其中As掺杂浓度可达到8×10^(18)cm^(-3)。研究发现,As掺杂对生长温度、As束流、材料组分等材料生长参数十分敏感,通过改进生长温度控制以及衬底加热方式可实现As浓度在材料横向和纵向的均匀分布。利用两步退火法开展As激活退火。当As浓度低于3×10^(17)cm^(-3)时,激活率趋于100%;随着As掺杂浓度的增加,激活率呈现下降趋势。
王丹
李震
姜梦佳
邢伟荣
管崇尚
关键词:
分子束外延
碲镉汞
一种半峰宽自动化测试工装
本发明公开了一种半峰宽自动化测试工装,所述半峰宽自动化测试工装包括:光信号处理系统,用于基于样品生成测试信号,所述光信号处理系统中的样品台包括用于定位样品的定位结构;计算机处理系统,与光信号处理系统通信连接,用于接收测试...
李乾
李达
折伟林
邢伟荣
刘铭
韦书领
文献传递
一种用于碲锌镉基碲镉汞分子束外延的表面重构方法及装置
本申请公开了一种用于碲锌镉基碲镉汞分子束外延的表面重构方法,包括:对碲锌镉衬底进行湿化学处理,得到碲锌镉衬底样品;对置于分子束外延设备装样腔中的碲锌镉衬底样品加热处理,得到去除水气的第一衬底样品;对置于分子束外延设备生长...
管崇尚
邢伟荣
周睿
李震
姜梦佳
王丹
胡雨农
折伟林
一种分子束外延系统取片装置及方法
本发明提出了一种分子束外延系统取片装置及方法,该分子束外延系统取片装置包括Load Lock和用于为加载或卸载样品提供操作空间的内部取片盒,所述内部取片盒顶部可选择地进行密封,所述内部取片盒顶部设置有甩胶装置,所述Loa...
周睿
李震
王丹
邢伟荣
折伟林
一种碲镉汞材料生长载具
本申请公开了一种碲镉汞材料生长载具,包括:底托单元,设置有四个用于螺钉固定的通孔,结合卡片,用于卡住底板与衬底,并使用螺钉固定;所述卡片的位置设置有卡片凹槽,所述卡片凹槽上设置有通孔,用于放置卡片;底板单元,为直径小于底...
李震
王丹
管崇尚
邢伟荣
折伟林
一种基于InAs的APD结构的制备方法
本发明公开了一种基于InAs的APD结构的制备方法,包括:以InAs衬底为基础,在所述InAs衬底上生长有掺杂的n<Sup>+</Sup>‑InAs层、有源层、掺杂的p‑InAs层以及掺杂的p<Sup>+</Sup>‑I...
邢伟荣
刘铭
周朋
胡雨农
文献传递
一种InAlSb薄膜中铝组分含量的测定方法及装置
本发明公开了一种InAlSb薄膜中铝组分含量的测定方法及装置,所述方法具体包括以下步骤:在InSb衬底上生长InAlSb薄膜,测定X射线的入射角在所述InAlSb薄膜满足布喇格方程时的角度θ<Sub>InAlSb测量</...
周朋
刘铭
折伟林
邢伟荣
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