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卡尔蔡司SMT股份有限公司

作品数：22 被引量：0H指数：0
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合作机构

文献类型

  • 22篇中文专利

领域

  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 12篇光学
  • 7篇微光刻
  • 7篇光刻
  • 5篇透镜
  • 4篇印刷
  • 4篇光轴
  • 3篇组件
  • 3篇物镜
  • 3篇光学系统
  • 3篇光学元件
  • 3篇光学组件
  • 3篇成像特性
  • 2篇掩模
  • 2篇印刷用
  • 2篇折射率
  • 2篇制造法
  • 2篇数值孔径
  • 2篇投影镜头
  • 2篇图案
  • 2篇偏振

机构

  • 22篇卡尔蔡司SM...
  • 3篇以色列实用材...
  • 1篇卡尔蔡司SM...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2010
  • 6篇2009
  • 6篇2008
  • 3篇2007
  • 1篇2006
  • 3篇2005
共 22 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
微光刻投影光学系统、工具及其制造方法
一种微光刻投影光学系统(1100)包括多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)，这些元件设置为将具有波长λ的辐射从物平面(103)中的物场成像到像平面(102)中的像场。该多个光学元件(...
H-J·曼W·乌尔里希
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曝光装置和用于投影透镜的测量装置
本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜(20)。为此，将浸渍液(34)引入位于投影透镜(20)的图像侧的末级透镜(L5；54)与待曝光的感光层(26)之间的浸渍空间(44)内。为了减小由...
A·埃尔曼U·韦格曼R·霍赫J·马尔曼K·H·舒斯特
文献传递
微平版印刷投影曝光装置的投影物镜
本发明公开了一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜。该微平版印刷投影曝光装置(110)的投影物镜是为其中浸渍液(134)与感光层(126)邻接的浸渍操作而设计的。浸渍液的折射率大于在投影物镜(120；120’；120”)的...
B·尼尔N·瓦布拉T·格鲁纳A·艾普勒S·贝德W·辛格
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微光刻投影光学系统、用于制造装置的方法以及设计光学表面的方法
总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310－360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所...
H-J·曼恩W·乌尔里希M·普莱托里尔斯
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具有照明源的光学装置
本发明涉及一种用于照明一应借助一相应的光学装置成像的物体的光学装置。该装置具有一布置在一照明光学装置的光瞳平面的附近或之中的照明光源(210)，所述光源产生一照明光束。照明光学装置布置在照明光源(210)与物体之间。在一...
D·巴德尔N·伦J·旺格勒
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粒子光学组件
一种物镜排布结构(100)包括：第一极靴(123)、第二极靴(125)以及第三极靴(163)，每一个极靴都大致旋转对称。第一极靴(123)、第二极靴(125)以及第三极靴(163)设置在物面(101)的同一侧。第一极靴的...
赖纳·克尼佩梅尔斯特凡·舒伯特
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粒子光学系统和排布结构,以及用于其的粒子光学组件
一种粒子光学排布结构，其包括：用于生成带电粒子束的带电粒子源；布置在带电粒子束的束路径中的多孔板，其中，该多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中，在多孔板的下游从带电粒子束形成了多个带电粒子分束，并且其中...
赖纳·克尼佩梅尔奥利弗·金茨勒托马斯·克门海科·米勒斯特凡·乌勒曼马克西米利安·海德尔安东尼奥·卡萨雷斯史蒂文·罗杰
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微光刻照射系统，包括这种照射系统的投影曝光设备
一种微光刻照射系统(5)，用于照射照射场(3)。优选使用的光分布装置(9，10)在第一照射平面(11)中产生二维强度分布。光学光栅元件的第一光栅阵列(12)产生二次光源的光栅阵列。具有附加光学效应的装置被空间相邻地分配给...
M·德京特M·莱M·格哈德B·托默W·辛格
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优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法
在用来优化至少两个光学元件(9、10)的成像特性的方法中，其中为了优化光学成像相互调整光学元件(9、10)的相对位置，执行以下步骤：首先确定对于至少一个光学元件(9、10)的与偏振有关的干扰量。接着由对于至少一个可运动的...
B·梅金T·格鲁纳A·科尔
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投影光学系统
一种投影光学系统，包括沿该投影光学系统的光轴设置的多个透镜；其中，所述多个透镜分为正折射力和负折射力的四个不重叠的透镜组，其中满足摘要附图中的关系式(1)，其中：y为该投影光学系统进行成像的最大像域的直径的一半，单位为m...
汉斯-于尔根·罗斯塔尔斯基 奥雷利安·多多克 威廉·乌尔希里 亚历山大·埃普勒
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