卢宇峰
- 作品数：4 被引量：8H指数：2
- 供职机构：浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 基于遗传算法的功能覆盖率收敛技术被引量：2
- 2015年
- 针对集成电路验证向量生成与功能覆盖率收敛的问题,提出一种基于遗传算法的功能覆盖率收敛技术.通过计算分析遗传算法中遗传算子的概率分布函数,获得由比例选择算子、均匀交叉算子以及二元变异算子组成的遗传算法,得到覆盖率广、重复性低的验证向量,在最短仿真时间内达到预先设定的功能覆盖率.实验采用基于Turbo芯片的图像处理硬件加速器作为验证模型,将遗传算法嵌入到以System Verilog语言为基础的层次化验证平台中.结果表明,与全随机向量验证相比,该算法有效增加了功能覆盖率并使仿真时间缩短了25%左右,实现功能覆盖率的快速收敛,提高了验证效率.
- 高史义罗小华卢宇峰刘富春张晨秋
- 关键词：遗传算法
- 基于LUT实时图像矫正的行缓存优化被引量：4
- 2016年
- 基于反向映射的图像矫正被广泛应用于解决光学镜头透视引起的非线性畸变失真问题,该方法将映射坐标固化在LUT内,避免了复杂的坐标计算,但需要大量行缓存储备图像数据用以执行反向映射.为了减少行缓存的使用,本文提出了一种基于读扩展的环形行缓存读写算法,利用行同步信号的消隐间隔扩展读周期,使读写指针循序错开,保证上下映射的空间.相比传统的以最大偏移作为行缓存的结构,改进的专用控制算法可以减少近一半的内存使用.本文中的实时图像矫正系统已经在FPGA上实现,实验结果表明所提出的读扩展行缓存算法显著地改善了内存的消耗,并且获得良好的实时图像矫正效果.
- 卢宇峰罗小华俞淼李益航
- 关键词：LUTFPGA图像矫正
- 增强工艺偏差容忍度的带隙基准电压源设计
- 2016年
- 随着CMOS工艺特征尺寸的减小,带隙基准电压源在制造过程中因器件失配和工艺波动易导致实际输出电压和目标值发生偏离,降低芯片成品率.为此提出将Pelgrom失配模型引入电路设计中,分别从器件参数、电路结构、版图布局三方面对亚微米级的电路进行工艺偏差优化.基于华润上华(CSMC)0.5μm工艺以及Hspice软件仿真,显示基准源输出电压为1.232 54V,偏差小于5mV.流片测试结果表明,应用此设计的三通道LED驱动控制芯片成品率达到96.8%,输出电流达到(18±0.5)mA的芯片占99.6%以上.
- 俞淼罗小华卢宇峰李益航
- 关键词：失配带隙基准电压成品率
