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胡立锋

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇电化学
  • 2篇电化学沉积
  • 2篇电化学沉积法
  • 2篇团聚
  • 2篇团聚现象
  • 2篇拉曼
  • 2篇拉曼散射
  • 2篇化学沉积法
  • 2篇活性基底
  • 2篇基底
  • 2篇表面增强拉曼
  • 2篇表面增强拉曼...
  • 1篇活性基
  • 1篇沟壑

机构

  • 2篇中国科学院

作者

  • 2篇潘革波
  • 2篇胡立锋
  • 2篇邓凤祥
  • 2篇赵宇

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法
本发明提供的一种高响应度的表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法，制备包括具有多孔沟壑表面的Ⅲ-Ⅴ半导体基底和分布在所述基底上的Au纳米颗粒的表面增强拉曼散射活性基底，包括步骤：对基底表面进行刻蚀处理，形成粗糙的表面；通过...
潘革波邓凤祥赵宇胡立锋
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表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法
本发明提供的一种高响应度的表面增强拉曼散射活性基底及其制备方法，制备包括具有多孔沟壑表面的Ⅲ‑Ⅴ半导体基底和分布在所述基底上的Au纳米颗粒的表面增强拉曼散射活性基底，包括步骤：对基底表面进行刻蚀处理，形成粗糙的表面；通过...
潘革波邓凤祥赵宇胡立锋
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