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姚日英

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：比亚迪汽车股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 2篇微结构
  • 2篇结构层
  • 2篇MEMS微结...
  • 1篇淀积
  • 1篇亚胺
  • 1篇掩膜
  • 1篇酰亚胺
  • 1篇微测辐射热计
  • 1篇牺牲层
  • 1篇膜层
  • 1篇聚酰亚胺
  • 1篇工艺波动
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非制冷
  • 1篇半导体
  • 1篇测辐射热计
  • 1篇成品率

机构

  • 3篇比亚迪汽车股...

作者

  • 3篇姚日英
  • 3篇王祝山
  • 2篇张国华
  • 2篇黄国华

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2012
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种MEMS微结构的制备方法
本发明提供一种MEMS微结构的制备方法，包括以下步骤：提供半导体衬底；在所述半导体衬底表面形成聚酰亚胺牺牲层并预固化；在所述聚酰亚胺牺牲层表面形成掩膜层；去除形成在所述半导体衬底边缘部分的所述掩膜层；去除未被所述掩膜层保...
姚日英王祝山张国华黄国华
文献传递
非晶硅热敏薄膜及非制冷非晶硅微测辐射热计的制备方法
本发明针对现有技术中在制备非制冷红外探测器中的热敏薄膜的过程中，PECVD方法的工艺窗口狭窄、形成热敏薄膜的过程中易导致工艺波动的缺陷，提供了一种非晶硅热敏薄膜的制备方法以及非制冷非晶硅微测辐射热计的制备方法，能够提供宽...
姚日英王祝山
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一种MEMS微结构的制备方法
本发明提供一种MEMS微结构的制备方法，包括以下步骤：提供半导体衬底；在所述半导体衬底表面形成聚酰亚胺牺牲层并预固化；在所述聚酰亚胺牺牲层表面形成掩膜层；去除形成在所述半导体衬底边缘部分的所述掩膜层；去除未被所述掩膜层保...
姚日英王祝山张国华黄国华
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