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文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇电路
  • 2篇声场
  • 2篇特征尺寸
  • 2篇气蚀
  • 2篇清洗技术
  • 2篇晶片
  • 2篇集成电路
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体集成
  • 2篇半导体集成电...

机构

  • 2篇北京七星华创...

作者

  • 2篇初国超
  • 2篇吴仪
  • 2篇张豹
  • 2篇蔡家骏
  • 2篇刘伟

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
晶片清洗装置
本实用新型公开了一种晶片清洗装置,涉及半导体集成电路器件清洗技术领域,所述装置包括:用于承载晶片的晶片承载单元、设置于所述晶片承载单元上方的晶片正面兆声波清洗喷头、设置于所述晶片承载单元内的晶片背面兆声波清洗单元、旋转轴...
刘伟吴仪张豹蔡家骏初国超
文献传递
晶片清洗装置及清洗方法
本发明公开了一种晶片清洗装置及清洗方法,涉及半导体集成电路器件清洗技术领域,所述装置包括:用于承载晶片的晶片承载单元、设置于所述晶片承载单元上方的晶片正面兆声波清洗喷头、设置于所述晶片承载单元内的晶片背面兆声波清洗单元、...
刘伟吴仪张豹蔡家骏初国超
文献传递
共1页<1>
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