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潘龙

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

主题

  • 5篇硅片
  • 4篇硅片表面
  • 3篇真空系统
  • 3篇前驱物
  • 3篇温度梯度
  • 3篇化学吸附
  • 2篇沉积速率
  • 1篇导流管
  • 1篇喷洒
  • 1篇气场
  • 1篇轴向
  • 1篇子层
  • 1篇涡流
  • 1篇弥散
  • 1篇进气
  • 1篇进气管
  • 1篇均匀性
  • 1篇分布均匀性

机构

  • 5篇北京七星华创...

作者

  • 5篇潘龙
  • 4篇彭文芳
  • 3篇刘东
  • 3篇常青
  • 1篇魏景峰
  • 1篇陈添明

年份

  • 2篇2016
  • 3篇2014
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
用于原子层薄膜沉积的反应装置
本实用新型提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本实用新型...
潘龙刘东彭文芳常青
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一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置
本实用新型涉及原子层薄膜沉积技术领域，具体涉及了一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置，包括第一反应源进气管、第二反应源进气管和反应源分散块，反应源分散块底部连通有多个竖直设置的第一反应源弥散管和第二反应源弥散管，第一反...
潘龙魏景峰
文献传递
一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法
本发明提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本发明通...
潘龙刘东彭文芳常青
文献传递
一种原子层薄膜沉积进气装置
本实用新型涉及原子层薄膜沉积技术领域，公开了一种原子层薄膜沉积进气装置。该原子层薄膜沉积进气装置包括：接头、接管和第一导流管；所述接管分别与所述第一接头和所述第一导流管连通，所述第一导流管两端分别安装有第一堵盖和第二堵盖...
潘龙陈添明彭文芳
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一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法
本发明提供一种用于原子层薄膜沉积的反应装置及方法，属太阳能电池制造装配和加工技术领域，包括依次连接的反应沉积腔、反应排空腔和真空系统；所述反应沉积腔内包括硅片承载单元、加热单元、前驱物进料单元、吹扫气体进气单元；本发明通...
潘龙刘东彭文芳常青
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