您的位置： 专家智库 > >

李晓飞

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 1篇镀膜
  • 1篇真空
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇热膨胀
  • 1篇热膨胀系数
  • 1篇消耗量
  • 1篇加热板
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射设备
  • 1篇半导体
  • 1篇薄膜沉积技术
  • 1篇测量方式

机构

  • 2篇北京京东方光...

作者

  • 2篇李晓飞
  • 1篇杜晓健
  • 1篇王剑
  • 1篇刘远宏
  • 1篇王浩
  • 1篇陈万海

年份

  • 2篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
一种薄膜沉积设备和均热板
本实用新型提供了一种薄膜沉积设备和均热板，涉及半导体技术领域，为减少反应腔室内的杂质微粒而设计。所述薄膜沉积设备，包括反应腔室，所述反应腔室内设置有加热板，所述加热板上设置有均热板，所述均热板远离所述加热板的上表面上设置...
李晓飞陈万海王剑刘远宏
文献传递
一种真空溅射设备
本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其是一种真空溅射设备，包括：真空腔体；基板和靶材，和位移测量装置。靶材在对基板进行镀膜的工作过程中会逐渐消耗，靶材板的厚度会逐渐变薄，通过在真空溅射设备内部设置位移测量装置，在真空溅射设备停...
王浩杜晓健李晓飞
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0