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毕建华
作品数:
7
被引量:14
H指数:3
供职机构:
清华大学信息科学技术学院电子工程系
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
理学
机械工程
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合作作者
俞学东
清华大学信息科学技术学院电子工...
陆家和
清华大学信息科学技术学院电子工...
刘心红
清华大学信息科学技术学院电子工...
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机构
7篇
清华大学
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7篇
毕建华
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俞学东
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陆家和
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微细加工技术
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清华大学学报...
年份
2篇
1997
1篇
1996
1篇
1995
3篇
1994
共
7
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聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用
被引量:5
1994年
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣,它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点,然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。
毕建华
陆家和
关键词:
聚焦离子束
光电子器件
亚微米聚焦离子束溅射刻蚀的实验研究
被引量:6
1996年
简要介绍了自制的聚焦离子束(FIB)系统中束着靶点的飘移现象,分析引起飘移的原因及所采取降低飘移的措施。用此FIB进行了一些基本图形的刻蚀研究,讨论了束流密度分布对溅射刻蚀线条宽度的影响。最后介绍了用FIB制作光电集成电路的谐振腔面和耦合腔的一些经验。
毕建华
俞学东
陆家和
关键词:
聚焦离子束
微细加工
刻蚀
可变束流二级透镜聚焦离子束系统的设计
被引量:1
1994年
本文介绍了一种具有高速消隐和可变束流的二级透镜聚焦离子束(FIB)系统的设计原理和方法。在这种新的二级透镜FIB系统中,采用了束径束流的双工作模式和一种新的电可调无级可变束径束流方案,使二级系统既可用于需要大束流的TOF─SIMS和刻蚀粗加工,又可用于需要小束径的高分辨扫描离子显微镜和刻蚀精加工以及FIB暴光、变蚀等其它微细加工。设计中提出了逐级可测试性设计原则,解决了多级系统中对中调整和测试的困难。计算了透镜系统的离子光学性能和各种参数对束径束流的影响。最后对系统进行了初步的调试,束斑达到0.1μm,得到了预期的结果。
俞学东
毕建华
陆家和
关键词:
聚焦离子束
液态金属离子源
微细加工
透镜
单级透镜聚焦离子束系统的研究
被引量:3
1994年
建立了一台简单实用的单级透镜聚焦离子束(FIB)系统。该系统采用优越的Ca ̄+液态金属离子源(LMIS)和单级O-S透镜,在束能为20keV、束流为300pA时,束径达到0.3μm。改进了束斑的测量方法。研究了影响束斑的各种因素。该系统既可用来作为扫描离子显微镜,又可作为亚微米加工工具。文中给出了在该系统上得到的样品显微图像和刻蚀图形的结果。
俞学东
毕建华
陆家和
关键词:
聚焦离子束
液态金属离子源
微细加工
亚微米聚焦离子束的漂移现象
1997年
研究了亚微米聚焦离子束(FIB)系统的漂移现象,给出了测量漂移的方法,分析引起漂移的原因及降低漂移的措施。发现了偏转电极上钝化层及污染物充电电荷所引起的漂移现象;测出了各电极电压变化所引起漂移的大小;发现了由于外壳温度不均匀引起离子枪轴线相对样品变化所引起的漂移。提出了制作透镜电极时保持轴对称、特别是限制光栏必须位于透镜光轴上的必要性。所给出的漂移数据既包含早期曾研制的单级透镜FIB系统的数据,也包含近期研制的二级透镜可变束流FIB系统的数据。
俞学东
毕建华
刘心红
宋风华
陆家和
关键词:
微细加工
亚微米
刻蚀
二级透镜聚焦离子束系统及其对中方法
被引量:2
1997年
介绍了一台使用液态金属离子源的二级透镜亚微米聚焦离子束系统。系统使用了可以微动的针尖以及电可调现场可变束径束流技术,在加速电压为15keV,束流为30pA时,束径可达到100nm。在系统设计时,提出了逐级可测性原则,并在设计结构时同时设计一套科学的调整方案,使二级透镜系统的对中调整更加迅速可靠。探讨了一种新的对中判断方法,称为漂移法,就是在保证光阑孔和透镜光轴合轴很好的情况下,聚焦电压偏移一定量时像点位置的漂移最小时物点离轴最近。漂移法比常用的束径最小法更加灵敏、可靠。
俞学东
毕建华
陆家和
关键词:
聚焦离子束
透镜
微细加工
束流可调的二级透镜亚微米聚焦离子束枪的设计计算和调测结果
被引量:1
1995年
介绍了最新设计的二级透镜聚焦离子束系统,该系统具有高速消隐、束径束流电可调等特征。给出了该系统的设计计算和调测结果。在束能15keV、束流30pA时,束径达到0.1μm。
毕建华
俞学东
陆家和
关键词:
聚焦离子束
微细加工
束流
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