张炜华
- 作品数：6 被引量：15H指数：2
- 供职机构：华南理工大学理学院更多>>
- 发文基金：广东省重大科技专项更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术更多>>
- Flip-around结构高速采样保持电路的设计
- 本文分析了Flip-around结构采样保持电路产生失真的原因,采用增加哑开关管的自举开关消除与输入有关的电荷注入和时钟馈通;采用增益增强技术提高运算放大器直流增益,并通过调整辅助运放的负载电容大小实现主运放建立时间特性...
- 朱建培姚若河张炜华吴为敬
- 关键词：数模转换采样保持电路设计
- 文献传递
- 一种改进的模拟占空比矫正电路被引量：1
- 2007年
- 基于PWLL结构的占空比矫正电路虽然克服了传统占空比矫正电路输出时钟上升沿在占空比矫正过程中发生变化的缺点，但其核心电路——频率电压变换电路不能工作在100MHz以上的频率范围，并且随着工作频率的升高，调整范围会变小。采用pullpush电荷泵代替频率电压变换电路，设计了一个工作在200MHz的占空比矫正电路，HSPICE仿真结果表明其调整范围为30％-70％，占空比变化在1个ps以下，达到了设计要求。
- 张炜华姚若河吴桐庆
- 关键词：占空比DCCFVC
- 小像素CCD的关键技术进展
- 2005年
- 随着CCD像素的不断增加,像素的尺寸不断减小,使用新的方法来提高每个像素的电荷处理能力,进一步减小各种噪声是小像素CCD的主要技术方向。
- 姚若河张炜华朱建培敬小成吴纬国
- 关键词：像素CCD尺寸噪声电荷
- 用磁控溅射法制备Cu薄膜的研究被引量：11
- 2004年
- 采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了Cu薄膜 ,应用台阶仪测量Cu膜的厚度 ,研究了薄膜的沉积速率与溅射功率的关系 ;用X射线衍射 (XRD)和扫描电镜Cu对薄膜进行了表征 ,研究了溅射功率对所制备薄膜的影响。制备出致密性和均匀性较好的Cu薄膜。
- 姚若河邹心遥张红张炜华
- 关键词：铜薄膜磁控溅射溅射功率
- 一种新型的模拟占空比矫正电路
- 本文采用pullpush电荷泵代替频率电压变换电路,设计了一个工作在200MHZ的占空比矫正电路,HSPICE仿真结果表明其调整范围为30﹪-70﹪,占空比变化在1个ps以内.
- 张炜华姚若河朱建培
- 关键词：集成电路电压变换芯片设计
- 文献传递
- Flip-around结构高速采样保持电路的设计被引量：3
- 2006年
- 分析了Flip-around结构采样保持电路产生失真的原因。采用增加哑开关管的自举开关,消除与输入有关的电荷注入和时钟馈通;采用增益增强技术,提高运算放大器的直流增益,并通过调整辅助运放的负载电容大小,实现主运放建立时间特性的优化。设计了一个Flip-around结构的高速采样保持电路;对电路各模块进行了功能仿真,给出了整个采样保持电路的仿真结果。
- 姚若河朱建培吴为敬张炜华
- 关键词：采样保持电路增益增强自举开关时钟馈通
