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田如江

作品数：4 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇电压
  • 1篇电子束
  • 1篇电子束曝光
  • 1篇镀膜
  • 1篇多功能机
  • 1篇四合一
  • 1篇隧道
  • 1篇隧道偏压
  • 1篇图像
  • 1篇偏压
  • 1篇脉冲电压
  • 1篇刻蚀
  • 1篇孔径
  • 1篇加工技术进展
  • 1篇溅射
  • 1篇分辨率
  • 1篇高分辨率
  • 1篇高能
  • 1篇编码器

机构

  • 2篇中国科学院微...
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 4篇韩阶平
  • 4篇田如江
  • 1篇刘辉
  • 1篇魏珂
  • 1篇刘辉
  • 1篇魏珂

传媒

  • 2篇第十一届全国...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇1999
  • 1篇1998
  • 1篇1996
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
用于高分辨率的高能X光图像的编码器孔径板的研制
魏珂韩阶平田如江刘辉
关键词：高分辨率高能X光图像
文献传递网络资源链接
SIRP-1型四合一多功能机及工艺研究
韩阶平魏珂田如江刘辉
关键词：多功能机光刻镀膜
文献传递网络资源链接
STM针尖刻蚀的多电子束现象
1996年
ＳＴＭ针尖刻蚀的多电子束现象田如江，韩阶平（中国科学院微电子中心）自从ＳＴＭ问世以来，已有大量报导是利用ＳＴＭ针尖所产生的低能量、空间发散相当小的电子束进行纳米加工。ＳＴＭ纳米加工具有加工尺寸小、设备简单等优点。但是对于ＳＴＭ纳米加工机理的认识还没有...
田如江韩阶平
关键词：电子束脉冲电压隧道偏压
超微细图形加工技术进展被引量：3
1998年
自1959年集成电路发明以来，它已经对人类的生产和生活方式的很多方面产生了极其重大的影响。集成电路正以线宽每年缩小30％、集成规模增长1倍、芯片价格随之下降的惊人速度发展。光刻技术的发展始终是集成电路发展的决定因素。本文综述了深亚微米光刻和纳米光刻技术。在光学光刻部分，简要描述了光刻的历史演变，较详细综述了光学光刻的最新进展，如相移掩模、离轴照明及深紫外曝光。最后介绍了电子束曝光及X射线曝光的发展状况及SIM纳米加工的发展状况。
田如江韩阶平马俊如
关键词：光刻电子束曝光
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