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中微半导体设备(上海)股份有限公司

作品数：1,284 被引量：1H指数：1
相关机构：南昌中微半导体设备有限公司北京大学上海芯元基半导体科技有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信文化科学金属学及工艺更多>>

合作机构

文献类型

  • 1,273篇专利
  • 4篇标准
  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇科技成果

领域

  • 135篇自动化与计算...
  • 101篇电子电信
  • 94篇文化科学
  • 87篇金属学及工艺
  • 44篇理学
  • 37篇电气工程
  • 24篇经济管理
  • 17篇一般工业技术
  • 15篇化学工程
  • 9篇交通运输工程
  • 8篇石油与天然气...
  • 7篇建筑科学
  • 6篇机械工程
  • 5篇环境科学与工...
  • 5篇医药卫生
  • 3篇天文地球
  • 2篇矿业工程
  • 2篇水利工程
  • 2篇航空宇航科学...
  • 1篇动力工程及工...

主题

  • 285篇等离子体
  • 246篇刻蚀
  • 205篇半导体
  • 202篇基片
  • 170篇晶圆
  • 160篇气体
  • 111篇等离子
  • 94篇射频
  • 94篇反应气体
  • 83篇零部件
  • 81篇组件
  • 78篇等离子体刻蚀
  • 78篇静电
  • 68篇电极
  • 56篇污染
  • 55篇射频电源
  • 55篇处理器
  • 53篇工艺气
  • 52篇真空
  • 51篇工艺气体

机构

  • 1,284篇中微半导体设...
  • 22篇南昌中微半导...
  • 4篇北京大学
  • 3篇上海芯元基半...
  • 2篇中国科学院
  • 2篇中国电子技术...
  • 2篇中国计量大学
  • 2篇中国科学院重...
  • 2篇东莞市志橙半...
  • 2篇上海微电子装...
  • 2篇广东省东莞市...
  • 2篇中关村半导体...
  • 2篇厦门三安光电...
  • 2篇北京北方华创...
  • 2篇安泰天龙钨钼...
  • 1篇江苏卓远半导...
  • 1篇东莞阿尔泰显...
  • 1篇东莞市中镓半...
  • 1篇浙江晶盛机电...
  • 1篇中电鹏程智能...

作者

  • 1篇张兴
  • 1篇王新强

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇上海电力大学...

年份

  • 213篇2025
  • 258篇2024
  • 240篇2023
  • 169篇2022
  • 219篇2021
  • 103篇2020
  • 82篇2019
共 1,284 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种去除半导体反应腔内金属污染的方法
本发明公开了一种去除半导体反应腔内金属污染的方法，包括：所述反应腔的内侧壁上具有金属污染物，向所述反应腔内通入碳氟气体，碳氟气体在反应腔的内侧壁形成碳氟聚合物，所述金属污染物吸附碳氟聚合物；所述金属污染物吸附碳氟聚合物之...
郭盛 陈星建
静电吸盘及其制作方法与等离子体处理装置
本发明提供一种静电吸盘及其制作方法以及可应用该静电吸盘的等离子体处理装置。其中，所述静电吸盘包括：基座；涂覆于所述基座上方的底部涂层，所述底部涂层至少包括两层涂层，该两层涂层具有不同的孔隙率；涂覆于所述底部涂层上方的电极...
贺小明陈星建郭盛段蛟倪图强尹志尧
文献传递
用于承载环件的前开式传送盒
本实用新型提供一种用于承载环件的前开式传送盒，包括：壳体，其具有前开口及容纳腔；用于承载多个环件的第一支撑架，其在所述容纳腔内且对称设置于所述前开口两侧的侧壁；所述第一支撑架的内侧面径向向内突出形成多个第一支撑台，多个所...
陈琦吴红星陈伟杰
一种进气组件及气相沉积设备
本发明提供了一种进气组件及气相沉积设备，属于气相沉积设备领域，为了解决由气体进气分布导致的基片表面沉积不均匀问题，本发明的技术方案具体包括一种气体分配板，其内部具有一进气通道；气体喷淋头，其内部设置有多个出气通道；所述气...
陈佳波吕术亮谢忠帅
一种利用ALD工艺对静电吸盘进行处理的方法
本发明公开了一种利用ALD工艺对静电吸盘进行处理的方法，包含：步骤1，将静电吸盘置于原子层沉积反应器中，通入第一反应气体，进行第一化学吸附，使得第一反应气体吸附至静电吸盘表面；步骤2，采用氮气流吹扫；步骤3，通入第二反应...
郭盛陈星建倪图强
文献传递
一种用于真空处理装置的静电夹盘维护装置及维护方法
本发明提供一种用于真空处理装置的静电夹盘维护工具，包括：支撑底板，所述支撑底板上表面固定有一个旋转基座，一个连接杆，所述连接杆包括第一端连接到一个压力杆，第二端连接到所述旋转基座上，使得旋转臂围绕所述旋转基座作圆周运动，...
陈星健贺小明魏强李一平
文献传递
一种低温刻蚀的方法及装置
本发明公开了一种基片的低温刻蚀方法，所述基片包括介质材料，所述方法包括：a)将基片放置在一腔体的基座上，所述基座包括其中具有流动的冷却剂的冷却通道，b)通过冷却剂将基片冷却到一冷却温度，所述冷却温度小于等于‑20℃，c)...
倪图强 杜若昕
文献传递
旋转桶
1.本外观设计产品的名称：旋转桶。;2.本外观设计产品的用途：用于气相沉积设备中支撑基片托盘。;3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。;4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
王栋辉郑振宇张昭丁伟
一种边缘环高度测量装置及方法
本发明提供了一种边缘环高度测量装置及方法，包括放在静电吸盘上的带有定位点的承载盘，以及承载盘上的成像设备，通过成像设备多次获取边缘环的图像，然后进行数据处理后计算边缘环的高度或者厚度变化，变化数据有利于对边缘环损耗的调整...
蔡楚洋 吴狄 连增迪
文献传递
一种气相沉积设备及其上衬垫
本发明提供一种气相沉积设备及其上衬垫，包含一反应腔，反应腔内的下方设有托盘，托盘的上表面为晶圆承载面，所述设备包含：上衬垫，其设置在反应腔内并与晶圆承载面相对，上衬垫与晶圆承载面之间形成反应区域；进气装置，用于横向地向反...
郭世平杜志游周宁罗稼昊姜勇黄洁洁黄稳
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