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南昌中微半导体设备有限公司

作品数：25 被引量：0H指数：0
相关机构：中微半导体设备(上海)股份有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术文化科学理学电子电信更多>>

合作机构

文献类型

  • 25篇中文专利

领域

  • 5篇自动化与计算...
  • 3篇文化科学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 10篇托盘
  • 6篇晶圆
  • 6篇基片
  • 5篇气体
  • 5篇组件
  • 5篇半导体
  • 4篇出气
  • 3篇底面
  • 3篇外延层
  • 3篇污染
  • 3篇联通
  • 3篇举升
  • 2篇顶盖
  • 2篇端口
  • 2篇信号
  • 2篇压力计
  • 2篇压力控制
  • 2篇压力控制器
  • 2篇液态
  • 2篇应力集中

机构

  • 25篇南昌中微半导...
  • 22篇中微半导体设...

年份

  • 4篇2025
  • 8篇2024
  • 7篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2021
  • 2篇2020
共 25 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种薄膜生长系统以及基片托盘和载环组件
一种支撑基片的基片托盘，所述基片托盘包括侧壁和侧壁围绕而成的的加热腔，所述侧壁顶部包括盖板，所述顶盖用于向下辐射热量；所述顶盖下方的侧壁内侧包括多个互相分离的支撑腔，以及与每个支撑腔相邻的举升腔，所述举升腔底部向下延伸并...
张辉姜勇
用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置
一种用于化学气相沉积装置的托盘和化学气相沉积装置，其中，所述托盘包括：托盘，可沿其中心轴转动，设有若干个基片槽，所述基片槽用于容纳待处理基片，每个所述基片槽包括远离所述中心轴的远心段、靠近所述中心轴的近心段和位于所述远心...
姜勇汪国元
文献传递
托盘及其金属有机化学气相沉积反应器
一种托盘以及金属有机化学气相沉积反应器，托盘包括：托盘，可沿其中心轴转动，具有托盘面，设有若干个凹陷于托盘面的基片槽，每个基片槽内设置若干个支撑台，支撑台用于支撑待处理基片，支撑台的上表面与托盘面之间的高度差使得当待处理...
胡建正陈耀姜勇郭世平
文献传递
托盘载具和SMIF盒装载设备
本发明公开了一种托盘载具和SMIF盒装载设备，托盘载具包括：底板，其底面用于与SMIF盒内的底座限位固定；托盘放置架，设置在底板上，托盘放置架包括支撑板，支撑板设置在底板的一侧，支撑板上有水平设置的托盘限位装置，托盘限位...
沈捷吴红星
一种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应方法
本发明提供一种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应方法，所述气体流量控制阀，包含：第一阀体和第二阀体，第一阀体、第二阀体相对设置且互相平行，二者之间形成反应气体的气流通道；定义第一阀体、第二阀体之间的间距为气体流量控制...
徐志鹏倪图强连增迪
金属有机物化学气相沉积反应器
一种金属有机物化学气相沉积反应器，包括：反应腔，顶部包括气体喷淋头，气体喷淋头包括第一输入端口、第二输入端口和第三输入端口；前驱物输送管道组，与多种前驱物源连接；前驱物汇合输入管道，与前驱物输送管道组连通，用于汇合多种前...
王文胡建正郭泉泳郭世平
文献传递
一种晶圆传输装置、气相沉积系统及使用方法
本发明公开了一种晶圆传输装置、气相沉积系统及使用方法，所述晶圆传输装置，包括：托盘，其上设有若干承载单元，每一所述承载单元包括至少两个子托盘，以及与每个所述子托盘对应的两个直线凹槽，所述直线凹槽在所述子托盘边缘相对设置；...
姜勇汪国元
金属有机物化学气相沉积反应器
一种金属有机物化学气相沉积反应器，包括：反应腔，顶部包括气体喷淋头，气体喷淋头包括第一输入端口、第二输入端口和第三输入端口；前驱物输送管道组，与多种前驱物源连接；前驱物汇合输入管道，与前驱物输送管道组连通，用于汇合多种前...
王文胡建正郭泉泳郭世平
工件处理方法、工件及等离子体处理装置
本发明公开了一种工件处理方法、工件及等离子体处理装置，本发明公开的工件处理方法包括：覆盖：在工件上覆盖液态碳硅烷，所述液态碳硅烷至少覆盖在所述工件的待处理位置；固化：将覆盖于所述工件上的液态碳硅烷固化，形成功能层。本发明...
陈星建陈煌琳史文博朱海波
化学气相沉积设备及其气体喷淋头
一种化学气相沉积设备及其气体喷淋头，气体喷淋头包含通过紧固件固定在反应腔顶盖下方的气体分配板和冷却板，冷却板上具有多个出气通道，利用加强筋对冷却板的出气通道进行加固，调整位于出气通道内的加强筋的位置，将靠近紧固件的加强筋...
姜勇郭世平王家毅邹煜申
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