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梁俊厚

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 3篇电路
  • 3篇集成电路
  • 2篇掩模
  • 2篇光刻
  • 1篇电路工艺
  • 1篇电器
  • 1篇亚胺
  • 1篇移相掩模
  • 1篇移相掩模技术
  • 1篇应急灯
  • 1篇照明
  • 1篇照明功能
  • 1篇真空技术
  • 1篇真空科学
  • 1篇直流变换
  • 1篇声光控制
  • 1篇数值模拟
  • 1篇酰亚胺
  • 1篇微米
  • 1篇微细加工

机构

  • 4篇中国科学院微...
  • 1篇北京邮电大学

作者

  • 5篇梁俊厚
  • 2篇韩阶平
  • 2篇陈宝钦
  • 1篇周静
  • 1篇龙品
  • 1篇刘大禾
  • 1篇陈梦真
  • 1篇徐大雄
  • 1篇海潮和
  • 1篇刘训春
  • 1篇李秀琼

传媒

  • 1篇高技术通讯
  • 1篇中国真空学会...
  • 1篇第六届全国电...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇1996
  • 2篇1994
  • 1篇1991
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
相移掩模方法及其一维数值模拟被引量：1
1994年
相移掩模方法是一种新的光刻技术，它可以提高现有光刻设备的分辨率，使超大规模集成电路及二元光学的制作迈上一个新台阶。本文介绍了相移掩模方法的基本原理，用部分相干光成象理论分析了用于光刻的投影照相系统的成象特性，导出了一维成象的简化公式，对一维光栅结构进行了计算机数值模拟并给出了模拟结果。
周静龙品刘大禾徐大雄陈宝钦梁俊厚
关键词：相移掩模光刻数值模拟集成电路
智能型家庭多用柔光器
本实用新型涉及一种新颖的家庭电器用品，智能型家庭多用柔光器。其主要特征是利用多种传感器，采用通用的晶体管、集成电路放大控制技术及交流-直流变换等技术，将充电器功能、应急灯功能和声光控制柔光照明功能集于一体，并将普通充电器...
梁久春梁俊厚
文献传递
真空科学在移相掩模技术中的应用
陈宝钦梁俊厚
关键词：真空技术移相掩模
PI-A作为负性电子抗蚀剂的应用性能研究
梁俊厚侯豪清韩阶平
关键词：光致抗蚀剂聚酰亚胺大规模集成电路
0.5微米基础工艺
陈梦真刘训春海潮和梁俊厚李秀琼韩阶平高士平王玉玲孙宝银等
一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：1.成果内容简介：(1)0.5微米基础工艺是0.8-1.2微米微细加工工艺技术研究的一部分成果。(2)该成果直接应用领域是超大规模集成电路。微细加工技术对光电子、微传感、微光学和...
关键词：
关键词：集成电路工艺半导体工艺光刻集成电路
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