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陈婷婷

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:同济大学更多>>
发文基金:国家重大科学仪器设备开发专项国家自然科学基金航天科技创新基金更多>>
相关领域:核科学技术化学工程理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电化学
  • 1篇电化学刻蚀
  • 1篇形貌
  • 1篇性能表征
  • 1篇微孔
  • 1篇微柱
  • 1篇像素
  • 1篇刻蚀
  • 1篇空间分辨率
  • 1篇分辨率
  • 1篇CUI

机构

  • 2篇同济大学
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 2篇顾牡
  • 2篇刘小林
  • 2篇黄世明
  • 2篇陈婷婷
  • 1篇刘波
  • 1篇倪晨
  • 1篇张娟楠
  • 1篇孙寿强
  • 1篇于怀娜

传媒

  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
基于微孔硅阵列的像素化γ-CuI闪烁转换屏的研制及性能表征
2017年
以微孔硅阵列为模板,高纯CuI粉末为原料,采用压力注入法,成功制备了具有单分散微柱结构的像素化CuI闪烁转换屏。扫描电子显微镜(SEM)与X射线衍射(XRD)的测试结果表明,所制备的转换屏中CuI微柱连续、致密,微柱柱径约为2.5μm、间隔约为1.5μm、柱长约为80μm,并具有良好的γ相晶体结构。在X射线激发下,所制备的像素化γ-CuI闪烁转换屏具有峰值波长位于680nm附近的红光慢发射带;掺碘后,该发射带被较大幅度的抑制,同时出现了峰值波长位于432nm的快发光峰;当碘掺杂含量达到10Wt%时,峰值波长位于680nm附近的红光慢发射带被完全抑制,只存在峰值波长位于432nm的快发光峰。采用刃边法测量了所制备的像素化γ-CuI闪烁屏的空间分辨率,结果显示其分辨率可达38lp·mm-1,表明该闪烁屏除拥有超快时间响应特性外,兼具很高的空间分辨本领,在X射线成像方面具有独特的应用价值。
孙寿强顾牡陈婷婷张娟楠刘小林刘波黄世明倪晨
关键词:空间分辨率
电化学刻蚀多孔硅阵列的形貌研究被引量:2
2015年
采用电化学刻蚀法在P型硅中制备多孔阵列结构。通过实验研究和理论分析,分别讨论硅片电阻率、电流密度、电解液组分对多孔硅形貌的影响。结果表明,在P型硅中电阻率决定了孔洞能否形成;改变电流密度,可以有效调控孔径大小;在电阻率30~50Ω·cm、电流密度20×10^–3A/cm^2的条件下,可以得到最优化多孔硅结构。通过模板引导法制备了高度有序的多孔硅阵列,孔径2.5μm,周期4μm。在电解液中添加十六烷基三甲基氯化铵(CTAC),反应生成的气泡更容易逸出,有利于改善多孔硅阵列形貌。研究成果为基于硅孔洞填充的像素化X射线闪烁转换屏的研制提供了必要的基础。
陈婷婷顾牡于怀娜刘小林黄世明
关键词:电化学刻蚀形貌
共1页<1>
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