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文献类型

  • 5篇中文专利

主题

  • 3篇挡板
  • 3篇掩膜
  • 3篇遮挡
  • 3篇紫外
  • 3篇紫外光
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻机
  • 3篇分区域
  • 2篇约瑟夫森结
  • 2篇绝缘
  • 2篇绝缘材料
  • 2篇开孔
  • 2篇超导
  • 2篇超导材料
  • 1篇底电极
  • 1篇磁场

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇马林贤
  • 2篇王会武
  • 2篇刘晓宇
  • 2篇应利良
  • 2篇刘全胜
  • 2篇王镇

年份

  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
集成于约瑟夫森结的超导磁场线圈及其制备方法
本发明提供一种集成于约瑟夫森结的超导磁场线圈及其制备方法,所述超导磁场线圈包括:多条底层磁场线圈层、多条顶层磁场线圈层、第二绝缘材料层;所述多条底层磁场线圈层和多条顶层磁场线圈层之间通过所述第二绝缘材料层隔离;所述第二绝...
王会武刘全胜 张栖瑜刘晓宇马林贤应利良王镇
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适于接触式光刻机的分区域曝光装置
本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置,包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板;所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本发明...
马林贤
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适于接触式光刻机的分区域曝光装置
本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置,包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板;所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本发明...
马林贤
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适于接触式光刻机的分区域曝光装置
本实用新型提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置,包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板;所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本...
马林贤
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集成于约瑟夫森结的超导磁场线圈及其制备方法
本发明提供一种集成于约瑟夫森结的超导磁场线圈及其制备方法,所述超导磁场线圈包括:多条底层磁场线圈层、多条顶层磁场线圈层、第二绝缘材料层;所述多条底层磁场线圈层和多条顶层磁场线圈层之间通过所述第二绝缘材料层隔离;所述第二绝...
王会武刘全胜 张栖瑜刘晓宇马林贤应利良王镇
共1页<1>
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