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相龙锋

作品数：3 被引量：13H指数：2
供职机构：北京理工大学更多>>
发文基金：北京市自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇ITO薄膜
  • 1篇柔性衬底
  • 1篇室温
  • 1篇室温制备
  • 1篇缓冲层
  • 1篇SIO
  • 1篇ITO
  • 1篇衬底

机构

  • 3篇北京理工大学

作者

  • 3篇相龙锋
  • 2篇喻志农
  • 2篇薛唯
  • 1篇王华清
  • 1篇卢维强
  • 1篇李玉琼

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇北京理工大学...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
SiO_2缓冲层对柔性ITO薄膜特性的影响被引量：7
2009年
利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化。采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征。实验结果表明:增加缓冲层后,柔性ITO薄膜的X射线衍射特征峰的强度增加;薄膜电阻率减小为1.21×10-3?·cm;可见光峰值透过率为85%左右;表面相对光滑;薄膜电阻在一定的弯曲状态保持一定的稳定性。
喻志农相龙锋李玉琼薛唯
关键词：ITO薄膜
离子辅助反应蒸发技术室温制备ITO薄膜被引量：6
2007年
室温下利用离子辅助反应蒸发法在玻璃衬底上制备高透射比、低电阻率的ITO透明导电薄膜.实验结果表明离子辅助蒸发可以有效地降低制备温度,提高薄膜的光电特性,薄膜具有明显的(222)择优取向,晶体粒子尺寸约为21 nm;离子源屏压、通氧量及沉积速率是影响薄膜光电特性的主要因素.室温制备的ITO薄膜电阻率为2.4×10-3Ω.cm,可见光平均透射比大于82%.
喻志农相龙锋薛唯王华清卢维强
关键词：室温ITO薄膜
柔性透明导电薄膜的低温制备
相龙锋
关键词：ITO柔性衬底
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共1页<1>
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