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邓建国

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇质心
  • 2篇束流
  • 2篇盘旋
  • 2篇控制精度
  • 1篇图形发生器
  • 1篇激光
  • 1篇激光图形发生...
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体设备

机构

  • 3篇中国电子科技...

作者

  • 3篇邓建国
  • 2篇黄磊
  • 2篇唐绍根
  • 1篇邹昭伟
  • 1篇刘玉奎
  • 1篇印子华

传媒

  • 1篇微电子学

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2019
  • 1篇2005
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统
本发明公开了一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统，其中，所述方法包括：获取束流束斑的径向分布；根据所述束斑的径向分布，计算束斑质心到靶盘中心的距离，即束斑的质心值R；根据公式<Image file="DDA00020...
唐绍根黄磊邓建国
文献传递
EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法
2005年
激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的版图精度有很大的影响。文章根据光栏的结构原理和实际应用,详细阐述了EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法。
邓建国刘玉奎印子华邹昭伟
关键词：半导体设备激光图形发生器
一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统
本发明公开了一种提高离子注入剂量控制精度的方法和系统，其中，所述方法包括：获取束流束斑的径向分布；根据所述束斑的径向分布，计算束斑质心到靶盘中心的距离，即束斑的质心值R；根据公式<Image file="DDA00020...
唐绍根黄磊邓建国
文献传递
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