尹宁
- 作品数：9 被引量：1H指数：1
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- 一种防止晶圆背面污染的机构
- 本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种防止晶圆背面污染的机构，包括吸盘、扇板、旋转电机、背喷装置、背喷架、背喷盘及安装板，背喷盘安装在安装板上，吸盘位于背喷盘的上方，并与安装在安装板上的旋转电机相连，由旋转电机...
- 尹宁
- 文献传递
- 一种废液收集杯的排风切换装置及其方法
- 本发明属于晶圆旋转涂覆的工艺技术领域，具体地说是一种废液收集杯的排风切换装置及其方法。所述装置包括分风盒、主风道、接口及排风切换机构，其中分风盒上设有分风盒进风口和分风盒出风口，所述分风盒进风口与废液收集杯的排风口连接，...
- 尹宁谷德君
- 文献传递
- 一种喷嘴清洗装置及清洗方法
- 本发明属于半导体行业晶片处理技术领域，具体地说是一种喷嘴清洗装置及清洗方法。所述装置包括清洗槽、接液盒及真空发生器，其中清洗槽设置于接液盒内，所述接液盒的底部设有接液盒排废口，所述清洗槽的两端为开口结构，并槽体内布设有流...
- 尹宁
- 文献传递
- 一种防止晶圆背面污染的机构
- 本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种防止晶圆背面污染的机构，包括吸盘、扇板、旋转电机、背喷装置、背喷架、背喷盘及安装板，背喷盘安装在安装板上，吸盘位于背喷盘的上方，并与安装在安装板上的旋转电机相连，由旋转电机...
- 尹宁
- 文献传递
- 一种液体涂布装置
- 本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种用于涂布显影液的液体涂布装置，包括喷嘴盖及喷嘴主体，其中喷嘴盖与喷嘴主体密封连接，中间形成密闭腔室，所述喷嘴盖上设有进液口，所述喷嘴主体上开有螺旋状的流道，该流道内设有排出...
- 尹宁
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- 显影单元腔室内流场结构分析与优化
- 2014年
- 匀胶显影设备中温湿度控制器(THS)为单元提供温度和湿度适宜的洁净空气,为保证单元内产生的颗粒不污染晶片,在单元中将空气流动设计成Down Flow形式,这样能带走单元腔室中的灰尘颗粒,有利于防止晶片的颗粒污染。由于显影单元的内部结构复杂,无法直接测量单元内部实际工作条件下的气流状态。文中采用数值模拟分析的方法对显影单元内部进行流场仿真分析,根据分析结果对结构进行优化,以达到更理想的腔室内气体流动状态,可以节约修改结构和复杂测试所消耗的时间和成本,缩短设计周期。
- 尹宁胡延兵卢继奎
- 关键词：温湿度控制器FILTERCUPDOWNFLOW
- 一种增粘单元HMDS吹扫结构
- 本发明涉及半导体匀胶显影技术领域，具体地说是一种增粘单元HMDS吹扫结构，其中上盘盖安装在支撑座上，上端盖安装在上盘盖中部，在所述支撑座的底板上设有凸台，所述热盘体固装于所述凸台上，晶圆置于所述热盘体上，上端盖、上盘盖、...
- 姜宗伟尹宁
- 文献传递
- 一种液体涂覆装置
- 本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种液体涂覆装置，包括工作台、底板、方形承片台、主轴电机、承片台升降气缸、主轴及液杯，主轴电机、承片台升降气缸及液杯分别安装在工作台上，主轴电机驱动主轴旋转，并且主轴与承片台升...
- 尹宁卢继奎
- 文献传递
- 涂胶显影机的产能设计被引量：1
- 2014年
- 涂胶显影机的产能设计是一个重要部分,通过对机台的工艺时间参数、工艺处理周期时间参数、工艺传递周期时间参数等核心参数的设计,有效地配置工艺处理模块的数量及位置、工艺传递晶圆的速度及路线,搭建出目标机台内的工艺模块组成架构,确定出目标机台内的各个机器人技术参数,满足与光刻机联线生产的量产涂胶显影机对产能的技术需求。
- 胡延兵尹宁
