孙扬
- 作品数：1 被引量：3H指数：1
- 供职机构：清华大学材料科学与工程系先进材料教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家杰出青年科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- Fe掺杂SnO2纳米晶薄膜的微观结构和性能被引量：3
- 2008年
- 采用反应磁控溅射法制备了Fe掺杂的SnO_2薄膜.沉积衬底为(100)的单晶硅,基片温度270℃,Ar为溅射气体.使用XRD,AFM和VSM研究氧分压对薄膜晶体结构和室温磁性能的影响.实验表明,氧分压为0.12Pa时,溅射得到的化学成分为Sn_(0.975)Fe_(0.025)O_(2-δ)的薄膜样品具有明显的室温铁磁性,平均饱和原子磁矩达到1.8μ_B/Fe.通过HRTEM和EDS分析了此样品的显微结构和成分分布,实验结果表明,薄膜由粒径3～7nm的纳米晶构成,为四方金红石SnO_2相;Fe元素分布较为均匀,排除了磁性能是由第二相产生的可能;同时由于薄膜电阻率接近于绝缘体,室温磁性能不是由载流子诱导机制形成的,而与晶格内部大量缺陷的存在密切相关.
- 孙扬刘晓芳于荣海
- 关键词：反应磁控溅射微观结构
