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闫凯

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：中国航空工业集团公司中国空空导弹研究院更多>>
相关领域：兵器科学与技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇兵器科学与技...

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇离子镀
  • 1篇离子镀膜
  • 1篇离子辅助沉积
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇APS

机构

  • 1篇中国航空工业...

作者

  • 1篇司阿利
  • 1篇闫凯

传媒

  • 1篇航空兵器

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺被引量：2
2008年
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
闫凯司阿利
关键词：离子镀膜工艺参数
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