刘光辉
- 作品数：5 被引量：4H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 紫外Sc2O3薄膜的光学和结构性能表征及其激光作用下的损伤机理被引量：2
- 2010年
- 利用电子束蒸发方法,在不同沉积温度（50～350℃）下制备了Sc2O3薄膜。分别用分光光度计,小角掠入射X射线衍射仪和轮廓仪测试了薄膜样品的光谱、微结构和表面粗糙度信息,并用薄膜分析软件Essential Macleod计算了Sc2O3薄膜的折射率和消光系数。结果表明：随着沉积温度升高,Sc2O3薄膜结晶程度增强,晶粒尺寸增大,且较高的沉积温度有利于获得较高的折射率。最后用355 nm,8 ns的三倍频Nd：YAG激光器测试了其激光损伤阈值（LIDT）,最大值为2.6 J/cm2,且阈值与薄膜的消光系数、表面粗糙度、光学损耗均呈现相反的变化趋势。用光学显微镜和扫描电子显微镜表征了该薄膜的破坏形貌,详细分析了薄膜在不同激光能量作用下破坏的发展过程,以及Sc2O3薄膜在355 nm紫外激光作用下LIDT与制备工艺的关系,重点分析了355 nm激光作用下薄膜的破坏机理。
- 刘光辉薛春荣晋云霞张伟丽方明贺洪波范正修
- 关键词：沉积温度光学性能结构性能激光损伤阈值
- Sc_2O_3替代层在532nm高反膜中的应用被引量：2
- 2009年
- 将Sc2O3替代层引入到532 nm高反膜(HfO2/SiO2)n中,利用Sc2O3在盐酸中具有较好的溶解性这个特点,把膜层与基片脱离,以方便基片返修,缩短返修周期,降低成本。能量色散谱元素测试表明,脱离后Sc元素残留率为0。用Lamada900分光光度计、WykoNT1100轮廓仪和ZYGO干涉仪分别表征了替代层引入对高反膜的光谱、表面粗糙度和应力的影响,并测试了膜系在532 nm的激光损伤阈值的变化,结果表明Sc2O3替代层的引入对高反膜的性能几乎没有负面影响。
- 刘光辉方明晋云霞张伟丽贺洪波范正修
- 关键词：高反膜应力激光损伤阈值抛光
- 光栅衍射效率的测量装置和方法
- 一种光栅衍射效率的测量装置和方法，该装置包括单色光源、分束器、光栅旋转台、探测器、二维平移台和计算机，特点是采用第二探测器和第三探测器分别在小圆弧和大圆弧上移动探测待测光栅衍射光束L3的能量，达到了减小测量盲区和降低光学...
- 汪剑鹏麻健勇晋云霞刘光辉邵建达范正修
- 文献传递
- 光栅衍射效率的测量装置和方法
- 一种光栅衍射效率的测量装置和方法，该装置包括单色光源、分束器、光栅旋转台、探测器、二维平移台和计算机，特点是采用第二探测器和第三探测器分别在小圆弧和大圆弧上移动探测待测光栅衍射光束L3的能量，达到了减小测量盲区和降低光学...
- 汪剑鹏麻健勇晋云霞刘光辉邵建达范正修
- 文献传递
- 多腔诱导透射滤光片缺陷的成因分析及抑制被引量：1
- 2010年
- 多腔诱导透射滤光片制备后出现的缺陷,严重地影响了薄膜样品的品质以及环境稳定性。实验用热蒸发的方法在室温浮法玻璃基底上制备了四腔诱导透射滤光片。用光学显微镜观测了缺陷的形貌,将缺陷分为不同类型的点状缺陷和线状缺陷,并结合光学轮廓仪和电子能量散射谱仪分析了缺陷的深度以及元素成份。分析结果显示,基片污染、喷溅以及应力、亚表面缺陷等综合因素是诱发缺陷产生的主要原因。为减少缺陷数量以及其尺寸和深度,实验验证了基底酸洗工艺对缺陷的抑制效果,证明了酸洗工艺具有可行性。最后结合缺陷产生的可能原因提出了制备工艺改进措施,已经取得了较好的成果。
- 卢宝文徐学科刘光辉胡国行刘晓凤范正修
- 关键词：光学薄膜酸洗工艺
