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李光

作品数：4 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇投影物镜
  • 3篇物镜
  • 3篇参考光
  • 2篇平面波
  • 2篇光波
  • 2篇测量方法
  • 2篇测量系统
  • 1篇条纹
  • 1篇同轴
  • 1篇透镜
  • 1篇离焦量
  • 1篇聚焦透镜
  • 1篇硅片
  • 1篇傅里叶
  • 1篇傅里叶变换
  • 1篇靶面

机构

  • 4篇中国科学院
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 4篇李光
  • 3篇陈铭勇
  • 3篇朱江平
  • 2篇唐燕
  • 2篇胡松
  • 1篇段宣明
  • 1篇赵立新
  • 1篇邸成良
  • 1篇严伟

传媒

  • 1篇中国激光

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种同轴检焦测量系统及其测量方法
本发明公开了一种同轴检焦测量系统及其测量方法。该测量系统包括参考光路，测量光路，投影物镜，探测模块；其基本过程如下：单色平面波经过分光棱镜分别到达投影物镜表面和反射镜表面，从反射镜表面反射的光作为参考光；另一部分光通过投...
李光陈铭勇唐燕朱江平
文献传递
一种同轴检焦测量系统及其测量方法
本发明公开了一种同轴检焦测量系统及其测量方法。该测量系统包括参考光路，测量光路，投影物镜，探测模块；其基本过程如下：单色平面波经过分光棱镜分别到达投影物镜表面和反射镜表面，从反射镜表面反射的光作为参考光；另一部分光通过投...
李光陈铭勇唐燕朱江平
文献传递
一种基于光束波前调制的同轴检焦装置
本发明公布了一种基于光束波前调制的同轴检焦装置。该装置包括检焦光源、聚焦透镜、针孔滤波器、光束准直透镜、分光棱镜、反射镜、投影物镜和成像CCD。检焦光束经过扩束准直后，分为两束，其中参考光经过反射镜折回到达CCD表面；测...
邸成良严伟胡松李光
文献传递
基于干涉的同轴检焦新方法被引量：2
2013年
针对现有离轴检焦技术在浸没式光刻方法中的局限性,提出了一种新的基于干涉的同轴检焦方法。测量光通过光刻物镜入射到硅片表面,在硅片表面反射后再次经过光刻物镜后,测量光和参考光产生干涉条纹,并被CCD接收,从而将硅片的离焦量信息调制在干涉条纹的相位信息中。通过对干涉条纹的相位提取,即可获得硅片的离焦量。仿真结果表明,该方法可以达到λ/25(λ=632.8nm)的检焦精度,并具有良好的抗噪性,满足浸没式光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。
李光朱江平陈铭勇赵立新胡松段宣明
关键词：傅里叶变换离焦量
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