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郑彬娜

作品数：2 被引量：11H指数：1
供职机构：西安理工大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 1篇形貌
  • 1篇偏压
  • 1篇组织形貌
  • 1篇微观结构
  • 1篇离子镀
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇GLC
  • 1篇沉积速率
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射离子...

机构

  • 2篇西安理工大学

作者

  • 2篇郑彬娜
  • 1篇蒋百灵
  • 1篇梁戈
  • 1篇李玉庆

传媒

  • 1篇兵器材料科学...

年份

  • 2篇2007
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
磁控溅射离子镀基体偏压对类石墨碳膜组织形貌及性能的影响被引量：11
2007年
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅衬底上沉积类石墨碳膜(GLC),研究基体负偏压对GLC膜的组织形貌及性能的影响。结果表明:基体偏压影响镀层表面形貌,-30V下的镀层表面为较小颗粒状组织;-65V下的镀层表面均匀致密,无明显颗粒组织;-90V下的镀层颗粒边界趋于明显;-120V下的出现大小不均匀的颗粒。沉积速率在-65V前保持平稳,-90V时下降为0.25!m·h-1。随偏压的增加,Ar元素含量先增加后降低。
梁戈郑彬娜蒋百灵李玉庆
关键词：非平衡磁控溅射偏压形貌沉积速率
基体偏压对GLC镀层微观结构及性能的影响
在磁控溅射离子镀技术中基体偏压对镀层的微观结构及性能有较大的影响。类石墨（Graphite-Like Carbon简称GLC）镀层是一种以SP2键为主并具有较高硬度的减摩耐磨镀层。本文通过改变基体偏压制备了五组GLC镀层...
郑彬娜
关键词：微观结构
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