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文献类型

  • 17篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 4篇化学工程
  • 2篇冶金工程

主题

  • 9篇抛光粉
  • 7篇稀土抛光粉
  • 4篇抛光
  • 4篇羧酸
  • 3篇多元醇
  • 3篇研磨
  • 3篇氧化铈
  • 2篇选择比
  • 2篇选择性
  • 2篇研磨效率
  • 2篇氧空位
  • 2篇乙二胺四乙酸
  • 2篇乙二胺四乙酸...
  • 2篇曲面玻璃
  • 2篇离子
  • 2篇磨粉
  • 2篇钠离子
  • 2篇晶格
  • 2篇晶格常数
  • 2篇高选择性

机构

  • 21篇包头天骄清美...
  • 2篇内蒙古科技大...
  • 1篇上海理工大学
  • 1篇教育部
  • 1篇包头稀土研究...

作者

  • 21篇赵延
  • 16篇周薇
  • 14篇杨国胜
  • 13篇程磊
  • 13篇杜悦
  • 9篇谢兵
  • 9篇崔凌霄
  • 6篇白小羽
  • 6篇张喜龙
  • 5篇李春旭
  • 5篇王健
  • 4篇黄绍东
  • 2篇胡艳宏
  • 2篇乔军
  • 2篇王传国
  • 1篇李鑫
  • 1篇王旭
  • 1篇王瑞芬
  • 1篇刘宏

传媒

  • 1篇无机盐工业
  • 1篇内蒙古科技大...
  • 1篇有色金属材料...

年份

  • 2篇2025
  • 1篇2024
  • 5篇2023
  • 2篇2022
  • 3篇2020
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 6篇2016
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
稀土抛光粉的制备方法
本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法,包括:制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土,氟的加入量为REO的5%~10%;氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉;稀土抛光粉包括:氧化镧、氧化铈、氧化钐和氧化钇。本发明通过精...
黄绍东杨国胜张存瑞周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑
文献传递
纳米CeO_(2)磨料在化学机械抛光中的研究进展
2025年
化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)是集成电路制造中实现全局平坦化的核心工艺,而纳米CeO_(2)因其较高的材料去除率、较低的表面损伤及高选择性成为CMP领域的关键磨料之一。综述了纳米CeO_(2)磨料的合成方法、性质调控及其对抛光性能的影响和作用机制。在合成方法中,水热法、沉淀法、溶胶-凝胶法均可通过控制合成条件制备出粒径均匀、团聚较少的纳米CeO_(2)磨料。纳米CeO_(2)磨料的粒径通过多种作用协同影响抛光效率,而形貌与结构对表面粗糙度及划痕深度产生显著影响。通过对纳米CeO_(2)磨料进行掺杂或还原处理以提高Ce^(3+)浓度,可增强其化学活性并改善其抛光性能。对作用机制的分析表明,纳米CeO_(2)磨料通过形成Ce―O―Si键以促进硅基材料表面水解和生成软质层,并通过机械研磨实现高效平坦化。
王旭李鑫邱名健倪一鸣刘明仁张栋梁赵延周薇王觅堂
关键词:化学机械抛光
稀土抛光粉及其制备方法
本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法,包括:制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土,氟的加入量为REO的5%~10%;氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉。本发明还公开了一种稀土抛光粉,包括氧化铈和氧化钇,氧化铈的稀...
黄绍东杨国胜张存瑞周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑
文献传递
高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料及其制备工艺
本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料,包括:水、氧化铈、分散剂、聚甲基丙烯酸盐、pH缓冲调节剂;按照质量百分比计,氧化铈的含量为0.3‑25%,聚甲基丙烯酸盐为固体氧化铈的0.05%‑5%,分散剂为聚甲基丙烯...
崔凌霄谢兵杨国胜张存瑞刘致文赵延程磊杜悦张倩悦
一种稀土抛光粉焙烧回转窑的卸料装置
本实用新型涉及一种稀土抛光粉焙烧回转窑的卸料装置,包括卸料漏斗,其特征是:卸料漏斗上部设有截面为弧面的水平通槽,在水平通槽下方中部设有漏斗下料口,水平通槽下部与漏斗下料口之间通过斜坡面过渡,水平通槽能够与焙烧回转窑窑体匹...
崔凌霄谢兵杨国胜李春旭刘致文赵延杜悦张喜龙王健张倩悦乔军王传国白小羽程磊周薇
文献传递
稀土抛光粉沉降速度的研究被引量:2
2022年
研究颗粒粒径、体系pH值、电解质、体系粘度、表面活性剂对稀土抛光粉颗粒在浆料中沉降速度的影响,结果表明沉降速度与粒径大小成正比;pH越高沉降速度越慢;浆料pH在8.0~8.5、黏度1000~1200 cps、使用阴离子表面活性剂可获得较慢沉降速度,EDTA-4Na可屏蔽Ca^(2+)影响;使用聚丙烯酸钠、聚乙烯醇、EDTA-4Na配制质量分数为10%的固含量浆料静置5 h仍保持较高的浓度.
赵延赵延胡艳宏周薇
关键词:稀土抛光粉浆料沉降速度
一种重量法测定稀土抛光粉沉降速度的装置
本实用新型涉及一种重量法测定稀土抛光粉沉降速度的装置,包括电子天平、沉降管,沉降管竖直安放在电子天平的称重面上,其特征是:在电子天平的称重面外围设有天平罩,在天平罩上水平放置有一个长方形支撑架,在支撑架的一个长边的一侧中...
崔凌霄谢兵杨国胜张倩悦刘致文程磊王健周薇李春旭杜悦藏桥雨赵延白小羽张喜龙
文献传递
高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺
本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺,制取碳酸铈浆料,碳酸铈浆料经升温、灼烧制备纳米级的氧化铈;将氧化铈用去离子水调浆,经高速剪切乳化、高速离心分离、超声波分散后制得氧化铈抛光浆料。本发明得到的CM...
崔凌霄谢兵杨国胜张存瑞刘致文赵延程磊杜悦张倩悦
文献传递
CMP用铈钇研磨材料及其制备方法
本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料及其制备方法,制备方法包括:将铈、钇的可溶性盐分别溶解,混合后得到钇铈混合溶液,采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇;将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈,反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中,...
周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑黄绍东杨国胜张存瑞
网状框架超细氧化铈的热分解行为研究
2025年
针对超细氧化铈前驱体焙烧过程中所产生的团聚和烧结问题,提出了一种利用多功能网状框架聚乙二醇(PEG)制备超细氧化铈粉体的前驱体碳酸铈盐的新思路,采用TG-DSC热分析仪研究前驱体的热分解过程并进行动力学分析,考察了焙烧温度、升温速率、保温时间对超细氧化铈粒径、形貌及晶体结构的影响。实验结果表明:前驱体的热分解过程分为3个阶段:第一阶段温度为25~258℃时,为脱自由水阶段,质量损失率为2.94%;第二阶段温度为258~422℃时,质量损失率为11.86%,前驱体Ce(CO_(3))_(2)O·H_(2)O、Ce_(2)(CO_(3))_(2)O·H_(2)O分解为CeCO_(3)OH和CeO_(2);第三阶段温度为422~630℃时,残留的PEG高温氧化分解挥发,部分稀土碳酸铈盐CeCO_(3)OH分解生成晶型完美的氧化铈,质量损失率为10.29%。运用Freeman-Carroll法计算确定第二阶段反应活化能(E)为166.68 kJ/mol,反应级数(n)为19.27;第三阶段反应活化能(E)为101.95 kJ/mol,反应级数(n)为14.75。确定在焙烧温度为1000℃,升温速率为300℃/h,保温时间为3 h的焙烧制度下,可得到中值粒径D50≤0.50µm的超细氧化铈粉体。
孟龙辉胡艳宏杨国胜杨国胜赵延柳召刚王瑞芬
关键词:焙烧动力学分析反应活化能
共3页<123>
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