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李长城

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇真空系统
  • 1篇声波发生器
  • 1篇湿法
  • 1篇湿法清洗
  • 1篇通孔
  • 1篇模态
  • 1篇模态分析
  • 1篇结构优化
  • 1篇晶圆
  • 1篇卡盘
  • 1篇超声波发生器
  • 1篇超声波清洗
  • 1篇VIA
  • 1篇CLEAN

机构

  • 3篇中国电子科技...

作者

  • 3篇李长城
  • 1篇王洪建

传媒

  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇科技创新与应...
  • 1篇中文科技期刊...

年份

  • 2篇2025
  • 1篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
超声波发生器的研究及应用
2016年
超声波系统作为半导体行业湿法清洗设备的重要配置,无论是在晶元抛光后清洗还是在化学机械平坦化(CMP)后清洗中都是影响清洗效果的关键一环。由于国外超声波系统价格昂贵并且供货周期长,而国内超声波系统效果不稳定性,针对以上因素自制研发了CS1200型超声波系统,并在多台清洗机上实际应用。
王洪建毛善高李长城
关键词:超声波清洗
晶圆承载卡盘设计及模态分析
2025年
采用三维建模软件对某型去胶机的晶圆承载卡盘进行设计建模,运用有限元分析软件完成对晶圆承载卡盘动力学分析。通过分析相关数据,晶圆承载卡盘一阶固有频率为776.09 Hz,远大于额定转速时的频率,晶圆承载卡盘在额定工况下不在共振频率区间内,论证承载卡盘结构的可靠性。同时对不同的工况转速进行实测验证,验证结果表明承载卡盘安全可靠,为后续大尺寸晶圆承载卡盘结构的设计和优化提供参考依据。
郭立刚郑静涛李长城李国森付佳维代卫才
关键词:模态分析结构优化
Via Clean湿法工艺应用及设备研究
2025年
通孔清洗(Via Clean)湿法工艺主要用于去除刻蚀过程中产生的残留物、光刻胶、聚合物和金属布线的污染物等,以提高芯片的良率。介绍了Via Clean在后道(BEOL)、前道(FEOL)和基片(Substrate)通孔制造三个工艺制程的需求,对Via Clean设备的主要功能模块及关键技术进行了研究,重点研究了真空系统腔室(VSC)单片湿法清洗工艺,分析了该工艺的清洗原理,并采用该工艺对10∶1深宽比的硅通孔(TSV)晶圆进行了试验研究,试验结果表明,晶圆表面的C/F元素原子得到了显著降低。
李长城陈钊谢振民
关键词:湿法清洗
共1页<1>
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