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张瞩君

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：常州天合光能有限公司更多>>
相关领域：电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

领域

  • 1篇电气工程

主题

  • 3篇石墨
  • 2篇氮化硅
  • 2篇氮化硅薄膜
  • 2篇电池
  • 2篇电池组
  • 2篇电池组件
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜设备
  • 2篇致密
  • 2篇致密性
  • 2篇太阳能
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇硅片
  • 2篇反射率
  • 1篇色差
  • 1篇污染
  • 1篇减反射膜
  • 1篇边框
  • 1篇PECVD

机构

  • 5篇常州天合光能...

作者

  • 5篇张瞩君
  • 3篇陈红
  • 1篇蔡鹏
  • 1篇赵金坤

年份

  • 1篇2012
  • 4篇2011
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种太阳能电池制作方法
本发明涉及一种太阳能电池制作方法，该方法是在电池片表面通过等离子体化学气相沉积法镀膜，在薄膜沉积初期，NH<Sub>3</Sub>与SiH<Sub>4</Sub>的气体比例控制在1∶0.37左右，采取适当低的等离子体激发...
张瞩君陈红
减反射膜设备用石墨框
本实用新型属于减反射膜设备用石墨框技术领域，该石墨框，包括四周的边框，在边框内设置载片框，两头的边框设计为窄边框，两侧保持为原来的宽边框，在增加的区域内增设一排载片框，在边框内设置六排每排五个共三十个载片框。因改进后的石...
蔡鹏赵金坤陈红顾潇力张瞩君
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PECVD上下同时镀膜方法
本发明涉及PECVD镀膜设备技术领域，特别是一种提高硅片镀膜效率的PECVD上下同时镀膜方法。该方法是将单一的上镀膜设备或下镀膜设备改造成PECVD上下同时镀膜设备，在石墨载板上同时放置上下叠加的两张硅片，PECVD上下...
张瞩君
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硅片镀膜载板
本实用新型涉及硅片镀膜设备技术领域，特别是一种硅片镀膜设备内的镀膜载板，在载板的前端与后端分别安装一条垂直载板前进方向的匀流条，匀流条高出载板的上端和下端。匀流条的安装可以显著的降低载板前后端色差片的产生；同时匀流条的安...
张瞩君
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一种太阳能电池制作方法
本发明涉及一种太阳能电池制作方法，该方法是在电池片表面通过等离子体化学气相沉积法镀膜，在薄膜沉积初期，NH<Sub>3</Sub>与SiH<Sub>4</Sub>的气体比例控制在1∶0.37左右，采取适当低的等离子体激发...
张瞩君陈红
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