为解决大口径红外元件类金刚石(Diamond-Like Carbon,DLC)膜层的镀膜工艺难题,满足长焦距、大视场光学系统的技术需求,采用射频等离子增强化学气相沉积(Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,RF-PECVD)制备工艺方法,基于容性耦合等离子体驻波效应及趋肤效应机理,在大口径红外元件基底制备了红外类金刚石膜。通过优化改进等离子体电场均匀性,有效降低了膜层应力并提升了其可靠性及膜层厚度均匀性。依据光学薄膜元件环境试验要求进行了高温、低温及湿热等试验,试验后膜层未出现膜层起皮、褶皱及脱落现象。结果表明,大口径红外类金刚石膜具备良好抗温度冲击及腐蚀等特性,满足光学元件镀膜的正常需求,进一步拓展了大口径DLC薄膜的制备工艺能力。
