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直流法制备类富勒烯碳氢薄膜的摩擦学性能研究被引量：3: 2015年; 采用直流等离子体化学气相沉积(dc-PECVD)技术,以甲烷为前驱体,在单晶硅表面制备了含氢类富勒烯(FL-C∶H)薄膜.简化了含氢类富勒烯(FL-C∶H)薄膜的脉冲偏压协助等离子体化学气相制备过程(mcPECVD),通过高分辨率透射电镜和拉曼光谱确定了FL-C∶H薄膜的微观结构和薄膜内的富勒烯含量;通过纳米压痕和往复摩擦试验对比了两种方法制备的FL-C∶H与传统的DLC薄膜的硬度及摩擦性能.结果表明:与用脉冲偏压协助方案制备的含氢类富勒烯薄膜相比,直流方案制备的FL-C∶H薄膜具有相似的微观结构,更优异的机械特性及摩擦学性能,同时该薄膜表现出对载荷、频率和相对湿度的低敏感性.; 欧玉静郭俊猛王永富高凯雄梁爱民张斌张俊彦; 关键词：直流

类富勒烯含氢碳薄膜的直流制备及摩擦学性能的研究: 本研究通过改变前驱体的参数和电源的能量，采用直流偏压等离子体增强化学气相沉积技术（PECVD），在单晶硅（100）基底成功合成了含氢类富勒烯碳基薄膜，与传统类金刚石薄膜和用脉冲偏压协助方案制备的含氢类富勒烯碳基薄膜相对比...; 郭俊猛; 关键词：气相沉积; 文献传递

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郭俊猛