您的位置： 专家智库 > >

董岩

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：电子工业部更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇电路
  • 2篇集成电路
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体集成
  • 1篇半导体集成电...
  • 1篇LSI

机构

  • 2篇电子工业部

作者

  • 2篇丁春志
  • 2篇董岩
  • 1篇苏舟

传媒

  • 2篇微处理机

年份

  • 2篇1998
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
磁控溅射Cr-Si薄膜的工艺研究被引量：1
1998年
本文对微电子固体薄膜结构，以及影响薄膜电阻导电性和稳定性的因素进行了研究和分析。实验数据和电路应用实例表明：Cr－Si薄膜电阻是一种良好的材料，它具有高电阻率、低温度漂移系数、高稳定性、无寄生效应、高匹配精度等特性。
丁春志董岩苏舟
关键词：磁控溅射半导体集成电路
磁控溅射铝硅合金膜的工艺研究
1998年
通过对Varian3180磁控溅射台溅射的Al-Sil％合金膜工艺的研究，得到了满足工艺线要求的工艺条件，完成了大规模集成电路的金属化要求，从而提高了集成电路的高可靠性。
丁春志董岩
关键词：LSI集成电路
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0