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王纯
作品数:
2
被引量:3
H指数:2
供职机构:
中国科学院微电子研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
李秀琼
中国科学院微电子研究所
王培大
中国科学院半导体研究所
杨军
中国科学院微电子研究所
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王纯
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1992
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冷发射电子束掺杂磷
被引量:2
1990年
一种新的冷发射电子束掺杂方法已研究成功。这种方法可实现高浓度(C_(max)=2.8×10^(20)/cm^3),超浅结[(x_j)_(min)≤0.1μm],而且损伤比离子注入的小得多。用这种方法制备的太阳能电池控制器件性能很好。
李秀琼
王培大
马祥彬
王纯
关键词:
掺杂
磷
集成电路
辉光放电电子束掺杂硼浅结
被引量:2
1992年
一种新的半导体掺杂方法——电子束掺杂法成功地用于实现掺硼浅结.它是用辉光放电电子束辐照涂敷杂质源的半导体表面,形成高浓度(≥10^(20)/cm^3)、浅结(≤0.1μm)掺杂层.损伤比离子注入的小.试制成功的太阳敏感器件性能优良.
李秀琼
王纯
马祥彬
杨军
关键词:
硼
浅结
半导体
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