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岑志军

作品数:6 被引量:25H指数:2
供职机构:南昌大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学轻工技术与工程金属学及工艺化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 2篇提纯
  • 2篇浸出
  • 2篇晶片
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇硅晶
  • 2篇硅晶片
  • 2篇白砷
  • 2篇
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇稻壳
  • 1篇稻壳制备
  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化铈
  • 1篇碳酸氢盐
  • 1篇炭黑
  • 1篇提纯工艺
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光粉

机构

  • 6篇南昌大学

作者

  • 6篇岑志军
  • 5篇周新木
  • 2篇李永绣
  • 2篇汤昌海
  • 1篇汪莹
  • 1篇刘厚凡
  • 1篇郭树军
  • 1篇彭欢
  • 1篇李静

传媒

  • 1篇粮油食品科技
  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇稀土

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
粗砷提纯工艺研究
采用湿法-火法提纯技术,其工艺条件为:用浓度为5~6 mol/L氨水溶液浸出、液固比为1.7~2.2,温度为50~65℃,反应3~4小时,砷浸出率可达95%以上,浸出液经蒸发结晶,砷酸氢铵经烘干在500℃下分解得白砷产品...
周新木岑志军汤昌海
关键词:白砷浸出提纯
文献传递
稻壳制备高纯白炭黑的工艺研究被引量:15
2010年
介绍了以稻壳为原料直接制备高纯白炭黑的方法;研究了循环酸浸泡工艺条件对稻壳灰的影响;不同物质处理稻壳对除金属杂质的影响;确定了反应的最佳工艺条件:1.3 mol/L盐酸浸泡稻壳一天,1.3 mol/L盐酸回流3 h,550℃煅烧3 h。此条件下制得的产品白度大于94,二氧化硅纯度99.9%以上;脉冲化学吸附仪法研究表明产品比表面积为190.17 m2/g;经红外、X射线衍射分析白炭黑产品为非晶态结构的水合SiO2。
郭树军周新木刘厚凡岑志军
关键词:稻壳白炭黑
CeO2复合磨料的合成及其对硅晶片抛光性能的研究
化学机械抛光(CMP)作为目前唯一的全局平坦化技术,在ULSI的制备工艺中起着非常重要的作用。CMP的关键技术之一是抛光浆料,抛光浆料的关键技术之一是磨料粒子。复合磨料集中各种单一磨料的优点,改善其缺点,将逐渐成为CMP...
岑志军
关键词:化学机械抛光表面粗糙度
文献传递
砷灰的提纯工艺
2011年
采用湿法-火法对粗砷进行提纯,在氨水溶液浸出浓度为5~6 mol/L,液固比为1.7~2.2,浸出温度为50~65℃,浸出时间为3~4 h的工艺条件下,砷的浸出率可达95%以上,浸出液经蒸发结晶得到亚砷酸氢铵,亚砷酸氢铵经烘干后在500℃下分解得白砷产品,纯度可达99.5%以上,浸出剂氨经蒸发得到回收。该工艺无三废排放,原料消耗少,具有较好的经济和环境效益。
周新木岑志军汪莹汤昌海
关键词:白砷浸出提纯
一种球型复合稀土抛光粉的制备方法
一种球型复合稀土抛光粉的制备方法,按以下步骤:镧和铈的氯化物按氧化物的质量比10:90~40:60溶于50℃~90℃水中,浓度0.1~2.0mol/L;搅拌下,将铵或碱金属硫酸盐加入50℃~90℃的氯化稀土溶液中,量为稀...
周新木李永绣岑志军
文献传递
掺氟复合磨料的制备及对单晶硅抛光性能的影响被引量:10
2012年
含氟的复合磨料在工业上已广泛应用,利用X-射线衍射、扫描电镜、激光粒度仪和原子力显微镜等测试手段,比较了不同掺氟方式和氟源得到含氟复合磨料的物性,以及对单晶硅的抛光效果和抛光表面性能的影响。结果表明,在80℃共沉淀、以掺氟量为7%掺入氟化物及1000℃下煅烧所得复合磨料具有较低的振实密度、粒度均匀的球型粒子,复合磨料中CeLa2O3F3含量相对较高,用于单晶硅的抛光可以得到较好的抛光表面性能;碳酸稀土直接喷撒氢氟酸在同等煅烧下制得复合磨料其抛光速率较高,但抛光表面性能较差。
周新木岑志军李静彭欢李永绣
关键词:单晶硅化学机械抛光
共1页<1>
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