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尹津龙

作品数:8 被引量:11H指数:2
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学化学工程电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇科技成果
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学
  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇旋涂膜
  • 4篇酞菁
  • 3篇光学
  • 2篇染料
  • 2篇光谱
  • 2篇光学常数
  • 2篇LB膜
  • 1篇英文
  • 1篇酞菁锌
  • 1篇偶氮染料
  • 1篇谱性质
  • 1篇螯合
  • 1篇螯合物
  • 1篇温度特性
  • 1篇吸收光谱
  • 1篇相变
  • 1篇绿光
  • 1篇金属
  • 1篇金属螯合物
  • 1篇聚集体

机构

  • 8篇中国科学院上...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 8篇尹津龙
  • 4篇顾冬红
  • 4篇干福熹
  • 2篇梁培辉
  • 2篇唐晓东
  • 1篇王阳
  • 1篇何红
  • 1篇许慧君
  • 1篇王双青
  • 1篇施宏仁
  • 1篇侯立松
  • 1篇沈淑引
  • 1篇董旭英
  • 1篇陈忠裕
  • 1篇唐福龙
  • 1篇干福喜

传媒

  • 1篇感光科学与光...
  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇北京同步辐射...

年份

  • 1篇2002
  • 2篇2000
  • 4篇1999
  • 1篇1998
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
酞菁LB薄膜及其旋涂膜光学参数的测量(英文)被引量:1
2000年
制备了四新戊氧基酞菁锌 L B膜和旋涂膜 ,采用 p偏振反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率 n和消光系数 k,发现这两种薄膜不仅表现出了相似的光学常数的数值 ,而且具有相似的随温度变化的趋势 .
顾铮天尹津龙梁培辉干福熹
关键词:酞菁LB膜旋涂膜光学常数
酞菁LB薄膜及其旋涂膜光学性质的研究被引量:1
1999年
制备了四新戊氧基酞菁锌的LB膜和旋涂膜,测定了这两种薄膜在不同温度退火后的吸收光谱,采用p-偏振双面反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率n和消光系数k,发现这两种薄膜不仅具有相似的光学常数的数值,而且表现出相似的随温度变化的趋势。
尹津龙梁培辉干福熹
关键词:酞菁LB膜旋涂膜光学常数光学性质
一种偶氮染料金属螯合物薄膜的光学特性研究被引量:4
1999年
An azo metal chelate compound with push pull electronic system was synthesized. Smooth thin films were prepared by spin coating. The absorption, transmission and reflection spectra of the films were measured. The optical constant (complex refractive index N=n +i k ) of the film was determined using scanning ellipsometer, and the complex dielectric function ε as well as absorption coefficient α were then calculated. Dynamic optical recording test indicated that the azo metal chelate dye was a promising candidate as optical recording medium.
王双青沈淑引许慧君顾冬红尹津龙唐晓东
关键词:偶氮染料金属螯合物光学特性
蓝绿光高密度光盘存储材料研究
干福熹顾冬红侯立松王阳陈忠裕施宏仁尹津龙
开发蓝绿光波段的新型短波长存储器件(如高密度数字多用光盘HD DVD)和相应的存储介质是当前发展高密度光盘存储技术的关键。基于“蓝绿光高密度光盘存储材料研究”国家自然科学基金重点项目所取得的重要进展及成果,本文论述了多种...
关键词:
关键词:蓝绿光
四新戊氧基酞菁锌旋涂膜结构研究被引量:1
1998年
将四新戊氧基酞菁锌的甲苯溶液旋涂成膜,经光学显微镜观察,薄膜表面光滑连续,小角度X射线衍射谱图中有规律的Keissig干涉峰说明膜厚均匀,红外反向光谱显示,未加热的薄膜中的分子排列无序,于150℃退火后,分子发生了共面聚集以接近垂直的角度直立在基片表面上,X射线衍射实验进一步证实了薄膜结构的有序性,并测定出了1.74A的晶面间距。
尹津龙郑文莉
关键词:旋涂膜分子取向
酞菁化合物薄膜的光谱性质和光存储性质
该文综述了光存储技术的研究现状及发展趋势,重点介绍了有机光致变色材料以及酞菁薄膜的研究状况,在此基础上,采用LB、旋涂等技术手段制备了多种酞菁薄膜,研究了它们的光谱性质、聚集体变化,并初步测试了它们的光存储性能.
尹津龙
关键词:酞菁聚集体LB技术可擦重写光存储
四新戊氧基酞菁锌旋涂膜的吸收光谱的温度特性被引量:4
1999年
在玻璃基片上制备了四新戊氧基酞菁锌(Tetra-neopentoxyphthalocyanineZinc,TNPPcZn)的旋涂膜,通过测定该薄膜在不同温度退火后的吸收光谱和X射线衍射谱图,研究了酞菁分子聚集体在薄膜中的变化。随着温度的升高,单体逐渐转变为聚集体;当温度升高到400℃时,聚集体重又向单体转变,同时还伴随有体系内非晶→晶相→非晶的相变。
尹津龙顾冬红干福熹
关键词:酞菁锌旋涂膜吸收光谱相变温度特性
高性能可录光盘(CD-R)扩试
干福喜田禾顾冬红苏建华唐福龙陈孔常唐晓东何红尹津龙董旭英孟凡顺
CD-R是CD-Recordable的简写,即可录光盘。这种光盘的记录层是有机染料,其存储容量为650MB,是目前市场上最畅销的光盘之一。该项目建立了200公斤/年的合成装置,生产出的CD-R染料在深圳先科CD-R之业生...
关键词:
关键词:染料
共1页<1>
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