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王劼

作品数：16 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所更多>>
相关领域：文化科学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇中文专利

领域

  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇真空
  • 4篇互联系统
  • 4篇CVD设备
  • 3篇进料
  • 3篇控制系统
  • 2篇整流罩
  • 2篇射频
  • 2篇射频加热
  • 2篇石墨
  • 2篇水冷壁
  • 2篇气体流量
  • 2篇切换
  • 2篇自动化
  • 2篇自动化控制
  • 2篇自动化控制系...
  • 2篇自动检查
  • 2篇外延片
  • 2篇耐热
  • 2篇耐热材料
  • 2篇控制模块

机构

  • 16篇中国科学院

作者

  • 16篇王劼
  • 8篇李智
  • 8篇张永红
  • 8篇张立国
  • 8篇范亚明
  • 6篇张洪泽
  • 2篇张泽洪

年份

  • 6篇2025
  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 3篇2016
  • 3篇2014
  • 2篇2013
共 16 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
晶体生长炉
本发明公开了一种晶体生长炉，包括反应室和加热装置，所述的反应室包括第一热壁和第二热壁，所述的第一热壁和第二热壁可拆卸连接，且所述的第一热壁和第二热壁围成晶体的反应空间，所述的第二热壁的材质为石墨，所述的加热装置配合第二热...
王劼张立国范亚明张洪泽
文献传递
样品传递装置及真空互联系统
本发明公开了一种样品传递装置及真空互联系统，样品传递装置，包括：中转室、置样台、进料腔、出料腔、样品托、第一操作杆、及第二操作杆。中转室包括进料口和出料口；置样台沿中转室轴向活动安装于中转室中；进料腔与进料口相连通；出料...
黄思涵李智王劼张永红
等离子体处理系统
本发明公开了一种等离子体处理系统，包括：支架、壳体、操作台、第一位置调节机构、等离子体发生器、第一真空处理装置、及检测分析装置。壳体固定安装于支架上，其内形成真空腔室；操作台沿壳体轴向活动安装于真空腔室中，用于放置样品；...
王劼李智黄思涵张永红
真空环境下的样品转移装置
本发明公开了一种真空环境下的样品转移装置，包括：壳体，壳体中形成有传料腔，壳体上设有进料口和出料口，进料腔通过进料口与传料腔相连通，出料腔通过出料口与传料腔相连通；抽真空机构固定安装于壳体上且与传料腔相连通；样品转移台可...
王劼李智黄思涵张永红
用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备
本发明公开了一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备。该进气装置呈多面体形结构，包括呈环形分布的复数个漏斗瓶进气喷头，其中任一漏斗瓶进气喷头内均设有相互隔离的内层进气腔和外层进气腔，所述内层进气腔和外层进气腔分...
王劼张立国范亚明张泽洪
一种MOCVD自动化控制系统
本发明公开了一种MOCVD自动化控制系统，包括执行模块和控制模块，该执行模块包括分别用于控制反应室内温度、压力、气体流量的温度控制模块、压力控制模块、流量控制模块，该控制模块可通过PID算法控制执行模块，该控制模块的扫描...
王劼张立国范亚明张洪泽
文献传递
转换托及样品转换装置
本发明公开了一种转换托及样品转换装置，转换托包括：基座、多组安装结构、多组压片结构、及多个样品托。安装结构沿周向固定安装于基座上，安装结构包括相对设置的两安装柱；压片结构包括相对设置的两压片，两压片分别固定安装于对应的安...
王劼李智黄思涵张永红
一种使用射频加热的桶式CVD设备反应室
本发明公开了一种使用射频加热的桶式CVD设备反应室，包括：具有双层管状结构的水冷壁，该水冷壁的内管腔中设有反应室，而内、外管之间至少与该反应室相应的区域内分布有冷却介质容置腔；设于该反应室内的加热基座，且该加热基座上分布...
王劼张立国范亚明张洪泽
文献传递
晶体生长炉
本发明公开了一种晶体生长炉，包括反应室和加热装置，所述的反应室包括第一热壁和第二热壁，所述的第一热壁和第二热壁可拆卸连接，且所述的第一热壁和第二热壁围成晶体的反应空间，所述的第二热壁的材质为石墨，所述的加热装置配合第二热...
王劼张立国范亚明张洪泽
文献传递
样品传递装置及真空互联系统
本发明公开了一种样品传递装置及真空互联系统，样品传递装置包括：中转室、转移台、样品自锁台及操作杆。其中，转移台，可移动地设置于中转室中；样品自锁台，可移动地设置于转移台上，样品自锁台包括台体和若干弹片组件；操作杆，用于带...
黄思涵李智王劼张永红
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