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史子康

作品数:33 被引量:18H指数:3
供职机构:中国科学院福建物质结构研究所更多>>
相关领域:理学电子电信核科学技术环境科学与工程更多>>

文献类型

  • 33篇中文期刊文章

领域

  • 27篇理学
  • 4篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇核科学技术

主题

  • 21篇正电子
  • 19篇正电子湮没
  • 17篇晶体
  • 8篇单晶
  • 8篇学法
  • 8篇正电
  • 8篇正电子湮没寿...
  • 5篇学法研究
  • 4篇体缺陷
  • 4篇邻苯
  • 4篇晶体缺陷
  • 4篇甲酸
  • 4篇二甲酸
  • 4篇ND:YAP
  • 3篇邻苯二甲酸
  • 3篇苯二甲酸
  • 2篇羟甲基
  • 2篇烷酸
  • 2篇邻苯二甲酸氢...
  • 2篇晶体生长

机构

  • 33篇中国科学院福...
  • 1篇福州大学

作者

  • 33篇史子康
  • 4篇梁桂金
  • 4篇苏根博
  • 3篇吴锦华
  • 3篇林翔
  • 3篇唐鼎元
  • 3篇官月英
  • 2篇贺友平
  • 2篇姚宏志
  • 2篇王丽青
  • 1篇张秀珠
  • 1篇林一德
  • 1篇颜明山
  • 1篇吴锵金
  • 1篇程利青
  • 1篇李征东
  • 1篇黄炳荣

传媒

  • 12篇人工晶体学报
  • 6篇应用科学学报
  • 4篇核技术
  • 3篇激光技术
  • 2篇黑龙江大学自...
  • 2篇应用激光
  • 1篇物理学报
  • 1篇环境保护
  • 1篇福州大学学报...
  • 1篇物理化学学报

年份

  • 3篇2000
  • 1篇1996
  • 1篇1994
  • 3篇1993
  • 6篇1992
  • 7篇1991
  • 5篇1990
  • 6篇1989
  • 1篇1987
33 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用^(22)Na的正电子测量固体表面膜的寿命谱学技术被引量:1
1993年
以薄金属膜为例,全面地阐述在等温和金属原子所占空间体积不变的条件下,用^(22)Na的正电子测量固体表面膜的寿命谱学法的原理和实用技术。
史子康
关键词:正电子
用正电子湮没研究β-BaB_(2)O_(4)晶体缺陷
1991年
实验测试用的BBO单晶样品由熔盐提拉法生长,晶体直径为48mm,厚为15mm;生长条件。沿c轴方向拉速为0.6-0.8mm/d,转速5r/min,降温速度为0.8-1℃/d。在晶体进行上下部各切取厚1mm并与生长方向垂直的薄片,双面抛光;然后对几个样品不同部位分别测量。放射源为^(22)Na。晶体在670℃左右恒温6小时退火。
林翔唐鼎元史子康
关键词:正电子湮没
正电子湮没技术研究Nd:YAP单晶色心
1992年
通过e^+湮没寿命谱学测试,研究了^(60)Co照射、脉冲氙灯照射及氢气中高温退火对色心的影响。建立了一种测量无色心晶体固有结构缺陷的新方法。
史子康
关键词:ND:YAP正电子湮没
用正电子湮没寿命谱学法研究“浸泡”工艺对Nd∶YAP晶棒质量影响被引量:1
1991年
报道用正电子湮没寿命谱学法研究在引上法生长Nd∶YAP单晶中引入的“浸泡”工艺对晶体质量的影响,证实了“浸泡”工艺可以改善晶体质量.
史子康
关键词:ND:YAP正电子湮没
磺酸水杨酸二钠单晶正电子湮没研究被引量:1
1990年
本文用正电子湮没谱学法研究磺酸水杨酸二钠单晶,测出单晶极性正负方向和极性电动势,并将电导性能,结构、生长联系起来。通过热处理前后α轴方向样品的正电子湮没研究,了解晶体内部缺陷运动规律。
史子康
关键词:磺酸单晶正电子湮没
14烷酸铅(LM)皂膜晶体的正电子湮没寿命谱学法研究
1992年
本文用正电子湮没寿命谱学法研究石英片上LM皂膜的晶体质量。发现制膜工艺对质量影响很大,并分析了影响质量的原因。最后提出了合理的热处理有可能提高LM晶体膜质量。
史子康俞贤椿
关键词:晶体LM正电子湮没
β-BaB_2O_4晶体缺陷的正电子湮没研究被引量:1
1993年
该文首次报道了利用正电子湮没寿命谱检测β-BaB_2O_4单晶的缺陷状况,并结合晶体的生长条件,晶体后处理等工艺,讨论了缺陷的形成机理.
林翔唐鼎元史子康
关键词:晶体缺陷正电子湮没
测量具有较长寿命的任意样品的寿命谱确定正电子湮没谱仪分辨函数的方法研究
1989年
本文在研究高斯拟合60Co分辨程序物理的基础上,进一步阐明通过测量具有较长 寿命的任意样品的寿命谱,确定正电子湮没谱仪分辨函数的方法.
程利青史子康
关键词:正电子湮没分辨率
Gd_2O_3-MgF_2膜的正电子湮没研究
2000年
用 2 2 Na正电子湮没寿命谱学法检测石英片上 Gd2 O3Mg F2 膜 .阐明了正电子湮没参数和膜结构的关系 .
官月英史子康
关键词:正电子湮没膜结构
用正电子湮没寿命谱学法研究DKDP单晶缺陷形成机理被引量:1
1992年
本文首次用正电子湮没寿命谱学法研究 DKDP 单晶生长缺陷形成的机理,说明了正电子湮没技术是检测离子型晶体缺陷的有力手段。
史子康官月英
关键词:DKDP晶体正电子湮没
共4页<1234>
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