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谢春蕾

作品数：6 被引量：0H指数：0
供职机构：浙江大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 5篇版图
  • 4篇电路
  • 4篇集成电路
  • 4篇光学邻近校正
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻仿真
  • 2篇亚微米
  • 2篇冗余
  • 2篇冗余信息
  • 2篇深亚微米
  • 2篇微米
  • 2篇模版
  • 2篇集成电路产品
  • 2篇层次化
  • 2篇超深亚微米
  • 1篇电路版图
  • 1篇掩模
  • 1篇遗传算法
  • 1篇可制造性
  • 1篇集成电路版图

机构

  • 6篇浙江大学

作者

  • 6篇谢春蕾
  • 4篇史峥
  • 4篇严晓浪
  • 2篇沈珊瑚
  • 1篇胡承敏
  • 1篇王国雄
  • 1篇陈晔
  • 1篇章庆
  • 1篇吴克智
  • 1篇史铮
  • 1篇林斌
  • 1篇陈志锦

传媒

  • 1篇Journa...
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2007
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
一种用于光学邻近校正的提取式层次化处理方法
本发明公开了一种用于光学邻近校正的提取式层次化处理方法。包括如下步骤：1)由光学仿真模型参数和版图图形特点确定图形相互影响距离；2)按照自底向上的顺序提取版图中除顶层单元外每个单元的最大不变图形集合，并替换对应单元的原有...
谢春蕾严晓浪史峥
文献传递
一种用于光学邻近校正的提取式层次化处理方法
本发明公开了一种用于光学邻近校正的提取式层次化处理方法。包括如下步骤：1)由光学仿真模型参数和版图图形特点确定图形相互影响距离；2)按照自底向上的顺序提取版图中除顶层单元外每个单元的最大不变图形集合，并替换对应单元的原有...
谢春蕾严晓浪史铮
文献传递
适用于超深亚微米光刻仿真的建模和优化
2007年
提出了一种新颖的利用版图轮廓的超深亚微米光刻工艺建模流程.该流程采用的方法主要包括:首先将代表纯光学模型的传输交叉系数矩阵通过圆极化采样正交投影成更小规模的矩阵,同时用该组相同的极化采样基表示掩模图形;然后用目标电路版图的严格3D仿真结果或其SEM轮廓图对该新系统进行半经验化的校正.在模型校正过程中引入了基于遗传算法的全局优化算法.实验结果显示,该方法能够快速有效地模拟用传统方法不能准确模拟的超深亚微米新出现的一些畸变效应.由于最终的模型是用一批卷积核的形式表示,建成的模型能够满足光学邻近校正对准确性和快速性的要求.
沈珊瑚史峥谢春蕾严晓浪
关键词：遗传算法光学邻近校正
应用于深亚波长光刻的光学邻近校正技术研究
在摩尔定律的驱动下，集成电路的晶体管密度每两年翻一倍，在保持生产成本不变的前提下，提高电路的性能，降低功耗。在过去的五十多年里，作为集成电路生产中的关键技术，光刻技术的发展成功将晶体管的尺寸从毫米级缩小到了纳米级。光刻光...
谢春蕾
关键词：光刻仿真光学邻近校正集成电路
文献传递
超深亚微米集成电路版图可制造性校正和验证技术
严晓浪史峥王国雄陈志锦马玥陈晔沈珊瑚杨祎巍谢春蕾胡承敏吴克智章庆
从超深亚微米到纳米级的集成电路生产普遍采用了亚波长光刻技术，以当前65nm工艺为例，光刻机采用193nm的光源波长，而所制造产品的特征尺寸远不到光源波长的一半。亚波长光刻的采用要求在集成电路掩模设计中必须使用基于光学校正...
关键词：
关键词：集成电路版图成像
一维版图的快速光刻仿真
2013年
充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相比于传统的快速仿真方法,该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。
谢春蕾史峥林斌
关键词：成像系统光刻光刻仿真
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