程星华
- 作品数：35 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中国电子工程设计院更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术电子电信经济管理机械工程更多>>
- 一种稳定输出半导体工艺用超纯水的调控方法和装置
- 一种稳定输出半导体工艺用超纯水的调控方法和装置，所述调控方法包括：S1深处理：对一次纯水处理得到二次纯水；S2一阶循环：将部分二次纯水回流循环进行步骤S1，未回流二次纯水存入纯水储槽，根据纯水储槽液位的模拟输出结果，按比...
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- 一种超纯水的二阶净化设备及净化工艺
- 一种超纯水的二阶净化设备及净化工艺，所述设备包括依次连接的一阶系统和二阶系统；一阶系统将一次纯水处理得到二次纯水，包括除盐单元、第一混合光解吸收器和脱气单元；二阶系统将二次纯水处理得到超纯水，包括膜吸收器、第二混合光解吸...
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- 一种用于离散生产的连续用能仿真装置及方法
- 本发明公开了一种用于离散生产的连续用能仿真装置及方法，连续用能仿真装置具体包括：通过信号连接的离散生产单元以及连续用能单元；离散生产单元用于根据离散生产的当前工况以及经连续用能单元优化后的工艺节拍，给出离散生产的实时工况...
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- 半导体工厂的纯水制备系统仿真模型的构建方法及装置
- 本发明公开一种半导体工厂的纯水制备系统仿真模型的构建方法及装置，方法包括：基于半导体工厂的工艺制程及产线规模需求的纯水指标及纯水用量，合理规划设计纯水制备系统的工艺流程、设备选型及配置；分别构建物料平衡分析模块及运行控制...
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- 一种自适应的半导体设备用能数字孪生仿真装置及方法
- 本发明公开了一种自适应的半导体设备用能数字孪生仿真装置及方法，装置包括通过信号连接的数据获取模块、仿真模型构建及运行模块和参数更新模块；数据获取模块获取半导体产品的投产信息和工艺参数信息以及实时获取实际加工数据；仿真模型...
- 夏连鲲赵晓妍何丽华孙雨萱赵馨飞王慧妹程星华徐策白帆
- IC制造项目节能措施合理性评估要点探讨
- 2016年
- 《固定资产投资项目节能评估和审查工作指南》（以下简称《指南》）中提出了＂能评前＂及＂能评后＂的概念,将能评报告的编制单位放在了第三方评估的位置,对项目用能情况进行评估,并提出具有实际操作价值的改进措施。近年来,我国大力推动集成电路（IC）制造业的发展,集成电路产业属于资金密集、技术密集的高新技术产业,具有用能种类繁多、三废排放量及耗能量大的特点。在集成电路制造项目的前期能评工作中,
- 蒋婧思程星华
- 关键词：节能措施节能评估IC制造耗能量第三方评估热回收系统
- 一种自适应的半导体设备用能数字孪生仿真装置及方法
- 本发明公开了一种自适应的半导体设备用能数字孪生仿真装置及方法，装置包括通过信号连接的数据获取模块、仿真模型构建及运行模块和参数更新模块；数据获取模块获取半导体产品的投产信息和工艺参数信息以及实时获取实际加工数据；仿真模型...
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- 一种超纯水处理系统及处理方法
- 一种超纯水处理系统和处理方法，超纯水处理系统包括一次纯水处理单元、纯水储槽、二次纯水处理单元、气体转移子单元；一次纯水处理单元，包括第一气体转移装置、电脱盐装置，将一次纯水净化为二次纯水；二次纯水处理单元，包括紫外线氧化...
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- CMP抛光液和终点检测技术研究
- 2024年
- 随着集成电路器件集成度的提高,晶圆尺寸和表面布线层数不断增加,特征尺寸不断减小,对晶圆表面的平整度提出了更高要求。作为唯一可以实现全局平坦化的方法,化学机械抛光(Chemical-Mechanical Polishing,CMP)成为晶圆制造过程的重要工艺。在各部件和化学品的协同作用下,化学机械抛光质量受到多个因素影响,介绍了抛光液和抛光终点检测(Endpoint detection,EPD)技术的研究新进展,着重阐述了抛光液在磨粒、化学添加剂和绿色环保方面的国内外研究方向,以及终点检测方法的几种新思路,展望了化学机械抛光技术的开发方向。
- 赵馨飞王君名白帆曹东程星华
- 关键词：化学机械抛光抛光液
- 一种半导体生产线二次配管装配流程的构建方法及装置
- 本发明公开了一种半导体生产线二次配管装配流程的构建方法及装置，根据用户的一次输入，调取预先构建的数据库中的二次配管组件数据；基于预设的二次配管组件装配逻辑，给出各个二次配管组件二维图形连接的二维管线逻辑关系图，并结合对应...
- 程星华杨光明徐策罗丹白帆刘学忠闫增会张峥赵晓妍李舒欣刘畅张海涛
