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文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇柔性衬底
  • 3篇透明导电
  • 3篇衬底
  • 2篇透明导电膜
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇电特性
  • 1篇电子器件
  • 1篇硬质
  • 1篇透明导电薄膜
  • 1篇小型化
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光电
  • 1篇光电特性
  • 1篇ZNO
  • 1篇ZNO:GA
  • 1篇ITO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 3篇江苏大学

作者

  • 3篇何维凤
  • 3篇李素敏
  • 3篇赵玉涛
  • 2篇李长生
  • 1篇张钊
  • 1篇戴起勋

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇材料导报
  • 1篇江苏大学学报...

年份

  • 1篇2006
  • 2篇2005
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射制备柔性衬底ZnO:Ga透明导电膜研究被引量:3
2006年
室温下,采用磁控溅射方法在有机柔性衬底聚酰亚胺(PI)表面制备出ZnO:Ga透明导电薄膜,研究了薄膜的结构及光电性能,其附着性良好,电阻率为9.1×10-4Ω·cm,可见光透过率为 85%。
李素敏赵玉涛何维凤戴起勋张钊
关键词:磁控溅射柔性衬底光电特性
柔性透明导电薄膜的研究现状、应用及趋势被引量:11
2005年
综述了目前制备柔性透明导电膜的主要技术及其优缺点,柔性透明导电薄膜是在柔性衬底 上沉积的一种透明导电膜,制备这种膜首要的问题是选择合适的衬底材料,其次就是选择合适的制 备技术,降低TCO膜的电阻率,提高可见光区的透射率,使薄膜性能稳定,重复性好,成本低,达到 实用要求.文中阐述了当前该领域的研究现状,并讨论了工业应用对柔性透明导电膜的性能要求及 其未来发展趋势.
赵玉涛何维凤李素敏李长生
关键词:透明导电柔性衬底ITOZNO
柔性透明导电薄膜的制备及其发展前景被引量:19
2005年
随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜将成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。综述了柔性透明导电膜的主要制备技术及其优缺点,阐述了当前该领域的最新研究成果及应用,并讨论了工业应用对柔性透明导电膜的性能要求及其未来发展趋势。
何维凤赵玉涛李素敏李长生
关键词:透明导电膜透明导电薄膜柔性衬底电子器件小型化硬质
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