龙品
- 作品数：9 被引量：6H指数：1
- 供职机构：北京邮电大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学一般工业技术更多>>
- 相移掩模方法及其一维数值模拟被引量：1
- 1994年
- 相移掩模方法是一种新的光刻技术，它可以提高现有光刻设备的分辨率，使超大规模集成电路及二元光学的制作迈上一个新台阶。本文介绍了相移掩模方法的基本原理，用部分相干光成象理论分析了用于光刻的投影照相系统的成象特性，导出了一维成象的简化公式，对一维光栅结构进行了计算机数值模拟并给出了模拟结果。
- 周静龙品刘大禾徐大雄陈宝钦梁俊厚
- 关键词：相移掩模光刻数值模拟集成电路
- 用二元光学器件实现对CO_2激光束的圆形光斑到均匀光强分布的矩形光斑的变换
- 1995年
- 设计并制作了一种具有8个位相级的二元光学器件,将波长为10．6μmCO_2激光器输出的圆形光斑变换成均匀光强分布的矩形光斑。器件制作在GaAs基片上,两面镀有光学增透膜,适用于2000W的大功率激光加工系统中。此器件可以根据需要设计成不同规格。
- 龙品尹霄莉徐大雄赵杰崔晓明
- 关键词：二元光学激光加工CO2激光
- 位相和坐标调制的多相位值相息片的优化设计被引量：4
- 1992年
- 一、引言近年来人们提出了许多形成光束阵列发生器的方法。其中较常用而且有效的一种方法是使用二值化的衍射光栅。这种由Dammann 提出、由其它人发展的Dammann 光栅是一种具有二值化的相位值并且在一个周期内各单元尺寸不同的透射或反射光栅。在光栅一个周期内设计不同尺寸的单元,以获得所需的衍射级数和衍射级数的光强分布。最近Turunen 等人提出了一种设计多相位值相息片(MPK)的新方法。MPK 是一种具有多相位值并且每个单元尺寸都相同的透射或反射光栅。在光栅的一个周期内各单元的相位值由设计而定,以达到所需的衍射级数和光强分布。经过优化设计的多相位值相息片,同二值化相位值的Dammann 光栅相比,具有较高的衍射效率和较低的噪声。本文报导了一种具有不同单元尺寸的MPK(称为改进型的MPK)的优化设计。相息片中的光栅的一个周期内每个单元的相位值和坐标值都可作为优化MPK 的特征函数的变量。所采用的优化算法为模拟退火法。本文还分析了诸如分辨率和刻蚀深度等影响制作相息片工艺的因素。
- 龙品邬敏贤陈柏刚金国藩
- 关键词：光栅优化设计
- 采用二元光学技术设计PS互连网络器件被引量：1
- 1993年
- 介绍了一种利用二元光学技术设计制作二元 PS(Perfect Shuffle)互连网络器件的方法,这种器件可以很简单地实现二维光学 PS 网络,而且具有重量轻,微型化,性能稳定,互连效率高等特点.分析了二元 PS 器件的串音问题,互连效率以及菲涅耳透镜的相对孔径与波长,光刻极限之间的关系.
- 施文敏龙品来松灿余重秀徐大雄
- 关键词：集成光学元件光学互连二元光学
- 全息散斑载波干涉方法及干涉条纹自动处理系统的研究
- 龙品
- 关键词：全息载波干涉干涉条纹
- 采用二元光学技术设计PS互连网络器件
- 1992年
- 施文敏龙品来松灿余重秀徐大雄
- 关键词：光互连光学透镜激光计算机
- 多位相光束分束器二元光学元件的优化设计
- 1993年
- 本文报导了对一种新的多位相分束器二元光学元件的优化设讨.二元光学元件一个周期中的每个单元的相位值和坐标都作为优化过程中的评价函数的变量.模拟结果表明,这种新的多相位分束器与只用每个单元的相位值作为优化过程中评价函数的变量的分束器相比,具有较高的衍射效率和较低的相对误差.本文还分析了影响制作多位相分束器二元光学元件的一些因素.
- 龙品陈柏刚徐大雄邬敏贤金国藩
- 关键词：分束器衍射光栅集成光学元件
- 边缘增锐型相移光刻技术的研究及其数值模拟被引量：1
- 1995年
- 相移光刻技术可以提高光刻设备的分辨率，为制作二元光学器件及超大规模集成电路提供了更强的技术力量，本文简单介绍相移光刻技术的基本原理，用自编的软件通过数值模拟对边缘增锐相移光刻技术做了探讨，给出了适合国内ｇ－线投影曝光机的边缘增锐型相移掩模的设计参数。
- 周静徐大雄陈宝钦龙品
- 关键词：光学器件
- 反衍射分数菲涅耳波带片的设计及其特性分析
- 1993年
- 施文敏龙品余重秀徐大雄
- 关键词：波带片光束电磁波
