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韩斌

作品数:26 被引量:0H指数:0
供职机构:陕西科技大学更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信文化科学医药卫生更多>>

文献类型

  • 24篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 3篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇医药卫生
  • 1篇理学

主题

  • 7篇纳米
  • 7篇光电
  • 5篇探测器
  • 5篇光电探测
  • 5篇光电探测器
  • 5篇
  • 3篇电极
  • 3篇掩模
  • 3篇掩模板
  • 3篇通信
  • 3篇退火
  • 3篇离子束
  • 3篇聚焦离子束
  • 3篇可见光通信
  • 3篇光通信
  • 3篇材料制备技术
  • 2篇等离子体增强
  • 2篇叠层
  • 2篇再结晶
  • 2篇设备价格

机构

  • 26篇陕西科技大学
  • 1篇西安交通大学...
  • 1篇太原理工大学
  • 1篇化工研究院

作者

  • 26篇韩斌
  • 2篇胡雨
  • 1篇许并社
  • 1篇吴胜利
  • 1篇王宁侠
  • 1篇翁雷
  • 1篇董海亮
  • 1篇贺迪
  • 1篇张文斌

传媒

  • 1篇发光学报
  • 1篇陕西教育(高...

年份

  • 5篇2025
  • 2篇2024
  • 2篇2023
  • 5篇2022
  • 6篇2021
  • 4篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2013
26 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种花状&链状黑磷材料及其制备方法
本发明公开了一种花状&链状黑磷材料及其制备方法,属于黑磷材料制备技术领域,包括以下步骤:S1、将在保护气体氛围下的黑磷取出,并在空气环境中研磨为黑磷粉末,将所述黑磷粉末分散到有机分散剂中,制得分散液;S2、将S1...
许并社张帅郝晓东韩斌马淑芳马寒羽陈昭汝刘青明
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一种常压下硅基锗纳米点的制备方法
本发明公开了一种常压下硅基锗纳米点的制备方法,属于锗纳米点制备技术领域。该制备方法包括清洗硅片;在干燥后的硅片上喷铂金层,将处理好的硅片放到条形容器的一端,另一端放入锗粉,盖上盖子,然后对装有锗粉的一端进行加热,同时向条...
马淑芳魏宇韩斌尚林郝晓东单恒升许并社
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一种金属掩模板及其制备方法和应用
本发明涉及半导体器件制备技术领域,公开了一种金属掩模板及其制备方法和应用,所述制备方法包括以下步骤:S1,以金属片为原材料,将其置于聚焦离子束下;S2,在真空条件下,打开聚焦离子束获取所述金属片的图像,确定金属片需要掩模...
韩斌王光辉许并社马淑芳夏林飞王豆穆含香
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一种等离子体增强MoS<SUB>2</SUB>光电探测器的制备方法
本发明属于可见光通信用光电探测器技术领域,具体涉及一种等离子体增强MoS<SUB>2</SUB>光电探测器的制备方法,包括以下步骤:首先从块状MoS<SUB>2</SUB>上机械剥离出MoS<SUB>2</SUB>薄膜,...
韩斌王豆李国强马淑芳许并社王光辉穆涵香刘博
一种高催化活性纳米二氧化铈的制备方法
本发明公开了一种高催化活性纳米二氧化铈的制备方法,属于纳米材料技术领域,包括以下步骤:制备氢氧化铈悬浮液;将正癸酸加至所述氢氧化铈悬浮液中,在150‑200℃进行预热,紧接着在350‑450℃反应成核并生长,之后快速低温...
郝晓东张帅徐阳许并社马淑芳尉国栋韩斌单恒升
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一种纳米析出强化CoCrNi基高熵合金的处理方法
本发明公开了一种新型纳米析出强化CoCrNi基高熵合金的处理方法,涉及高熵合金技术领域。包括以下步骤:将铸态的CoCrNi基高熵合金,于1150~1250℃均匀化退火1.5~3h后,进行第一次加工形变减薄为铸态合金厚度的...
韩斌夏林飞王光辉
一种新型纳米析出强化CoCrNi基高熵合金的处理方法
本发明公开了一种新型纳米析出强化CoCrNi基高熵合金的处理方法,涉及高熵合金技术领域。包括以下步骤:将铸态的CoCrNi基高熵合金,于1150~1250℃均匀化退火1.5~3h后,进行第一次加工形变减薄为铸态合金厚度的...
韩斌夏林飞王光辉
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一种透明掩模板及其制备方法和应用
本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种透明掩模板及其制备方法和应用,包括以下步骤:S1、在铜胶带和热释放胶带的中心打圆孔,并孔对孔将热释放胶带和铜胶带贴紧,之后在热释放胶带一侧贴PET胶带,制得待加工样品;S2、采用...
韩斌王光辉马淑芳许并社穆涵香刘博王豆胡雨
一种黑磷量子点/纳米片复合材料及其制备方法
本发明公开了一种黑磷量子点/纳米片复合材料及其制备方法,属于复合材料制备技术领域,包括以下步骤:S1:制备黑磷分散液;S2:将S1黑磷分散液分别经过第一步微波处理和第二步微波处理,制得混合物;S3:将S2混合物进行离心处...
韩斌席婷楚阳阳许并社马淑芳郝晓东
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一种InGaAs/AlGaAs阱垒外延层结构的优化方法及其应用
本发明提供了一种InGaAs/AlGaAs阱垒外延层结构的优化方法及其应用,包含GaAs衬底和GaAs间隔层,具体是利用MOCVD方法在GaAs衬底上交替生长量子阱InGaAs和势垒AlGaAs,并在每个InGaAs/A...
马淑芳孔庆波郝晓东许并社韩斌徐阳刘青明张帅
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共3页<123>
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