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陈明娟

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:华南理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国际热核聚变实验堆计划更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇等离子
  • 2篇等离子喷涂
  • 2篇低压等离子喷...
  • 2篇涂层
  • 2篇喷涂
  • 2篇钨涂层
  • 2篇离子喷涂
  • 1篇喷枪
  • 1篇喷涂层
  • 1篇显微结构
  • 1篇孔径
  • 1篇孔径分布
  • 1篇
  • 1篇W

机构

  • 2篇华南理工大学
  • 1篇广州有色金属...

作者

  • 2篇陈明娟
  • 1篇刘敏
  • 1篇邓畅光
  • 1篇邓春明
  • 1篇车晓舟
  • 1篇杨震晓

传媒

  • 1篇材料保护

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
低压等离子喷涂W涂层的制备和表征
采用低压等离子喷涂在热沉材料CrZrCu表面沉积物理性能稳定的W涂层被认为是聚变堆中理想的面向等离子体第一壁材料。然而,W涂层的性能包括氧含量、孔隙率和热导率等在很大程度上影响着其应用。氧含量过高、孔隙率过大都会使W涂层...
陈明娟
关键词:低压等离子喷涂喷枪
文献传递
低压等离子喷涂厚钨涂层的组织与性能被引量:2
2013年
为获得高致密度、高热导率及低氧含量的钨喷涂层,采用低压等离子喷涂(LPPS)技术,以4种不同工艺参数在铬锆铜基体上制备了0.9~1.2 mm钨喷涂层。用扫描电镜、氧氮分析仪及闪光导热仪研究了4种钨喷涂层的显微结构、氧含量及热导率,揭示了优化工艺制备的钨喷涂层的孔径分布,分析了喷涂功率和真空室压力对涂层的影响。结果表明,4种钨喷涂层均呈层状结构,优化工艺制备的钨喷涂层的致密度为98.4%,氧含量为0.2%(质量分数),热导率为110.76 W/(m.K),孔隙的主要孔径分布范围为0.2~4.0μm,以1.0μm左右的孔隙为主。
杨震晓刘敏邓春明陈明娟邓畅光车晓舟
关键词:低压等离子喷涂显微结构孔径分布
共1页<1>
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