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张春辉

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：浙江大学更多>>
发文基金：中国航空科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇旋涂
  • 1篇球面
  • 1篇曲面
  • 1篇激光
  • 1篇激光直写
  • 1篇激光直写光刻
  • 1篇胶层厚度
  • 1篇光刻

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇张春辉
  • 1篇梁宜勇
  • 1篇陈龙江
  • 1篇罗剑波
  • 1篇杨国光

传媒

  • 1篇光电子．激光

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
球面旋涂胶层厚度分布模型及其实验研究被引量：2
2009年
创建一种光刻胶离心式旋涂过程中基于流体力学分析的凸面胶厚分布及胶厚均匀性模型,根据曲面流体运动方程以及凸面基片的面型特征得到了凸面恒速甩胶过程中胶层厚度的分布公式,结合凸面流体层流条件和牛顿流体的质量连续方程推导出胶厚分布与胶液类型、初始胶液粘度和密度、转速、基片几何尺寸以及甩胶时间等参数的关系式,利用光谱椭偏仪和台阶仪所测得的结果对该模型进行了验证,两者有较好的吻合,同时建立了胶厚均匀性与甩胶转速、甩胶时间的关系式,该模型可跟踪、监控和改进预光刻过程中凸面胶层的均匀性,以便改善最后的光刻线条质量。
陈龙江罗剑波梁宜勇张春辉杨国光
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共1页<1>
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